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单选题
在较先进的集成电路制造工艺中，通常采（）来实现掺杂。
A

刻蚀

B

离子注入

C

光刻

D

金属化

参考答案

参考解析
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考题 按制造工艺集成电路分为（）。A、半导体集成电路B、TTL集成电路C、厚膜集成电路D、薄膜集成电路E、CMOS集成电路
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考题 集成电路按照制造工艺可分为（）。A、半导体集成电路B、薄膜集成电路C、数字集成电路D、厚膜集成电路
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考题 问答题集成电路主要有哪些基本制造工艺？
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考题 填空题常规集成电路平面制造工艺主要由（）、（）、（）、（）、（）等工艺手段组成。
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考题 填空题常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有（）、（）、（）、（）、（）、（）、（）等。
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考题 判断题热扩散掺杂的工艺可以一步实现。A 对B 错
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考题 单选题半导体集成电路是微电子技术的核心。下面有关集成电路的叙述中错误的是（）。A 集成电路有小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模等多种，嵌入式处理器芯片一般属于大规模集成电路B 集成电路的制造大约需要几百道工序，工艺复杂且技术难度非常高C 集成电路大多在硅衬底上制作而成，硅衬底是单晶硅锭经切割、研磨和抛光而成的圆形薄片D 集成电路中的电路及电子元件，需反复交叉使用氧化，光刻，掺杂和互连等工序才能制成
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考题 单选题现代集成电路制造工艺中，主流掺杂技术为（）A 扩散B 化学机械抛光C 刻蚀D 离子注入
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考题 多选题关于集成电路中的无源器件说法正确的是（）A集成电路无法高效的实现高值无源器件。B要精确实现某一特定阻值的电阻几乎是不可能的。C由于制造工艺上的偏差，无源器件的比例容差（Ratio Tolerance）也必定很大。D尽管存在制造工艺上的偏差，但是无源器件的比例容差（Ratio Tolerance）可以控制在很小的范围内。
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考题 判断题双极型集成电路工艺是用来制造CMOS集成电路。A 对B 错
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考题 判断题PLC由于采用现代大规模集成电路技术，采用严格的生产工艺制造，内部电路采取了先进的抗干扰技术，具有很高的可靠性。A 对B 错
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