考题
比曝光测试表细小图纹晒版时可（）A、加长曝光时间B、略少于测试标准时间C、维持测试标准时间
考题
炭素纸的晒版中，已敏化的碳素版需进行（）曝光。A、先晒阳图，后晒网目的两次B、先晒网目，后晒阳图的两次C、同时晒网目和阳图D、晒版
考题
晒版时间不足较会造成（）A、图纹缩小B、薄膜或败版C、锯齿状D、错网
考题
（）非造成直接版冲版后，印纹仍残留异物乳剂A、再生网版残墨B、乳剂内含异物C、产生针孔D、原稿底片有针孔
考题
晒版后（）无图纹潜像。A、过度曝晒B、曝光不足C、未晒版前曝光D、未放置底片
考题
晒版机上之全光及半光其功能为（）A、水性版采半光B、油性版采半光C、油性版采全光D、视乳剂感度及图纹而定
考题
明室覆片机是（）A、晒版机械B、冲洗底片机械C、翻制底片机D、间接版晒版机
考题
（）不是冲版不良所造成A、图纹堵塞或败版B、图纹扩大C、图纹缩小D、针孔
考题
（）不是晒版时版与底片移位，或重复曝光所产生之不良现象。A、版纹不清B、版纹冲不掉C、双重影像D、锯齿状
考题
于宽容度允许时间内晒版长短不会影响（）A、图纹分辨率B、针孔C、版膜坚牢度D、冲版显影
考题
晒版前发现底片有瑕疵应（）A、重新制作或修正底片B、制版后修正C、减少曝光时间D、加强曝光时间
考题
以下（）不是过度曝光所造成A、不易显影B、图纹缩小C、图纹变形D、图纹冲不出
考题
（）会造成版纹脱落A、曝光过度B、乳剂涂后烘干温度过高C、未晒前曝光D、冲版不当
考题
满版印刷是指（）A、有多幅图纹B、较大的印版C、图纹为整块D、色面印纹晕开
考题
（）不是制版后处理所造成之缺失。A、裱框离图纹太近B、补框边胶沾着图纹C、补版胶在被印物面做修补D、版膜太薄
考题
版纹不易冲掉所述（）是错误的A、底片浓度低B、晒版过度C、水压不足D、图纹太大
考题
晒版前发现版面小部份有瑕疵时应（）A、用剥膜膏修整B、用补版胶修补C、将晒版底片印纹躲开瑕疵D、可以不加理会
考题
版膜未干即晒版会（）A、败版B、版膜较厚C、印纹较细D、版膜冲不掉
考题
网版图纹显像不佳之原因，以下叙述（）错误A、曝光过度B、原稿底片对比反差高C、使用白色网布D、网版涂布乳剂后存放时间过长
考题
（）较无法于晒版时控制。A、膜厚B、错网C、图纹角度D、曝光强度
考题
晒版曝光时应考虑（）A、印纹放置位置B、被印物种类C、涂布的精密度D、成本
考题
（）不是晒版台不干净所造成的。A、针孔B、败版C、锯齿状D、版纹漏失
考题
晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和（）A、阳图晒版B、反像晒版C、阴图晒版D、PS版晒版
考题
直间接晒版以下所述（）错误A、曝光过度版纹冲版不易B、曝光不足版膜较薄C、直间接感光胶片可以水贴合D、直间接胶片感光后再贴
考题
平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应
考题
单选题晒版依据印版的种类可分为平凹版晒版和（）A
阳图晒版B
反像晒版C
阴图晒版D
PS版晒版
考题
单选题平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。A
防止不应曝光的部位曝光B
保证印版与底片密合C
减少曝光时间D
防止印版药膜发生化学反应
