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填空题
()用于掩蔽铁离子的干扰,其溶液不稳定,需临用时现配。
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考题
在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。
A、控制酸度,降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度,降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
考题
在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力
考题
多选题在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法
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