考题
滞后产生的原因包括()。
A、测量元件安装位置不当B、测量变送单位本身存在滞后C、测量信号的传递滞后D、以上都不对
考题
测量变送环节的纯滞后时间常数越小,对控制性能越有利。()
此题为判断题(对，错)。
考题
化工生产中,主要需测量的参数对象有哪些()()()()()。
考题
化工生产中测量参数有()。
A、温度B、压力C、流量D、液位和成分
考题
双容对象特性与单容对象特性相比增加了()。A、纯滞后B、传送滞后C、测量滞后D、容量滞后
考题
化工测量过程中测量参数（）测量易引起纯滞后。A、温度、成分B、压力、成分C、流量、温度D、液位、流量
考题
用来测量工艺生产过程中的压力、流量、温度、物位物质成分等参数的装置称为石油化工测量（）。A、仪表B、装置C、单元控制D、碳原子
考题
化工自动化仪表按其所测的工艺参数分，可以分为温度测量仪表、液位测量仪表、（）、流量测量仪表和成分分析器。A、压力测量仪表B、控制测量仪表C、显示测量仪表D、统计测量仪表
考题
一个系统的对象有容量滞后，另一个系统由于测量点位置造成纯滞后，如分别采用微分作用克服滞后，效果如何？
考题
抱轴瓦组装过程中，测量抱轴瓦量需测量哪些参数?
考题
联苯炉控制仪表参数设定时，微分调节主要用来克服调节对象的（）。A、惯性滞后和容量滞后B、惯性滞后和纯滞后C、容量滞后和纯滞后D、所有滞后
考题
测量滞后一般由测量元件特性引起，克服测量滞后的办法是在调节规律中增加积分环节。
考题
（）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A、调节通道B、测量元件C、变送器D、干扰通道
考题
测量信号滞后产生的原因包括（）。A、测量元件安装位置不当B、测量变送单元本身存在滞后C、测量信号的传递滞后D、以上都不对
考题
化工生产中热工测量五大参数（）、（）、（）、（）、（）。
考题
化工测量过程中测量参数（）的测量易引起纯滞后。A、温度、成分B、压力、成分C、流量、温度D、液位、流量
考题
微分作用不能克服对象的（）。A、惯性滞后B、容量滞后C、测量滞后D、纯滞后
考题
仪表信号传递所需的时间是（）时间。A、容量滞后B、纯滞后C、惯性滞后D、测量滞后
考题
化工生产过程中，仪表测量的五大参数为（）、（）、（）、（）、（）。
考题
化工过程测量中，（）测量易引入纯滞后。A、流量、压力B、压力、物位C、物位、温度D、温度、成分
考题
串级调节系统可以用于改善（）时间较大的对象，有超前作用。A、容量滞后B、测量滞后C、惯性滞后D、纯滞后
考题
（）存在纯滞后，但不会影响控制品质指标。 A、 控制通道 B、 测量元件 C、 变送器 D、 干扰通道
考题
当（）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A、调节通道B、测量元件C、变送器D、干扰通道
考题
温度、压力、流量、液位４种参数测量中滞后最大的是（）滞后最小的是（）。
考题
单选题（）存在纯滞后，但不会影响控制品质指标。A
控制通道 B
测量元件 C
变送器 D
干扰通道
考题
单选题当（）存在纯滞后，通常不影响控制质量。A
调节通道B
测量元件C
变送器D
干扰通道