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氧化炉的温度与()有关。
- A、氨蒸发器温度
- B、混合器的温度
- C、氨浓度
- D、氮压机流量
参考答案
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考题
PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C.巴非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D.非贵金属预氧化烧结的温度与OP层烧结的温度相同E.理想的氧化膜厚度为0.2~2μm
考题
氧化炉点火前,氧化炉铂网温度超低连锁,气氨温度超低连锁,氨空比超低连锁应该()。A、气氨温度超低自动,其余旁路B、全部自动C、氧化炉铂网温度超低连锁旁路,其余自动D、氨空比超低连锁帝路,其余自动
考题
判断题煤气发生炉内的氧化层亦称火层,一般所称炉内反应温度是指炉内火层的温度。A
对B
错
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