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题目内容
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单选题
该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是（ ）。
A
腭杆离开模型2mm
B
腭杆与模型贴合
C
腭杆离开模型0.2mm
D
腭杆离开模型0.5～1mm
E
腭杆离开模型1.5mm
参考答案
参考解析
解析：
后腭杆也可根据患者的敏感程度，适当调整其位置。在杆和黏膜之间可留有一定间隙，以免义齿下沉时，压迫黏膜而造成创伤和疼痛。
后腭杆也可根据患者的敏感程度，适当调整其位置。在杆和黏膜之间可留有一定间隙，以免义齿下沉时，压迫黏膜而造成创伤和疼痛。
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考题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
患者，男，876|678缺失，余牙正常，可摘局部义齿修复，54|45为基牙，弯制成品牙腭杆连接。后腭杆的两端位于A、54|45之间B、65|56之间C、76|67之间D、87|78之间E、位于颤动线该义齿的后腭杆与模型腭部间的关系是A、腭杆离开模型2mmB、腭杆与模型贴合C、腭杆离开模型0.2mmD、腭杆离开模型0.5～1mmE、腭杆离开模型1.5mm杆的两端，进入基托连接部分的要求，下列哪项是错误的A、连接部分要磨薄B、连接部分表面要粗糙，不宜太光滑C、连接部分边缘要磨成齿状D、连接部分与模型贴合E、连接部分应形成内外接合线
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。A
不做处理，让患者把义齿戴走B
腭杆组织面加自凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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