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单选题
范第姆特方程式不能说明()
A

板高的概念

B

色谱峰的扩张

C

柱效率降低的影响因素

D

色谱分离操作条件的选择


参考答案

参考解析
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考题 关于范第姆特方程式下列哪种说法是正确的()A、载气最佳流速这一点 ,柱塔板高度最大B、载气最佳流速这一点,柱塔板高度最小C、塔板高度最小时,载气流速最小D、塔板高度最小时,载气流速最大

考题 范第姆特方程式主要说明()。 A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为G、色谱分离操作条件的确定

考题 库仑分析的理论基础是()。A、电解方程式B、法拉第定律C、能斯特方程式D、菲克定律

考题 范第姆特方程式主要说明()。A、板高的概念B、色谱峰扩张C、柱效率降低的影响因素D、组分在两相间的分配情况E、色谱分离操作条件的选择F、被测组分在色谱柱中的色谱行为

考题 范第姆特方程式主要说明()A、板高的概念B、色谱分离操作条件的选择C、柱效降低的影响因素D、组分在两相间分配情况

考题 在液相色谱中,范第姆特方程中的涡流扩散项对柱效的影响可以忽略。

考题 根据范第姆特方程式,下列说法正确的是()A、h越大,则柱效能越高,色谱峰越窄,对分离越有利B、固定相颗粒填充越均匀,则柱效能越高C、载气流速越高,则柱效能越高D、载气流速越低,则柱效能越高

考题 气相色谱中范弟姆特方程中H=(),其中()叫传质阻力项,()叫涡流扩散项,C叫分子传质系数。

考题 根据气相色谱法中范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu,试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素,如填充均匀程度、载气流速、()。

考题 根据范弟姆特方程式,在高流速情况下,影响柱效的因素主要是()A、传质阻力B、涡流扩散C、柱弯曲因子D、纵向扩散

考题 根据范第姆特方程式,下列说法正确的是()A、最佳流速时,塔板高度最小B、最佳流速时,塔板高度最大C、最佳塔板高度时,流速最小D、最佳塔板高度时,流速最大

考题 当色谱柱温为150℃时,其范第姆特方程中的常数:A=0.08cm,B=0.15cm2•s-1,C=0.03s,这根柱子的最佳流速是多少?所对应的最小塔板高度为多少?

考题 1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时,提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程,其数学表达式为H=A+B/u+Cu,式中各项代表的意义是:A是(),B是(),C是(),u是()

考题 范第姆特方程式不能说明()A、板高的概念B、色谱峰的扩张C、柱效率降低的影响因素D、色谱分离操作条件的选择

考题 简述范第姆特方程式中A、B/u、Cu三项代表的物理意义及如何控制这些因素来提高柱效。

考题 在液相色谱中,范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计()A、涡流扩散项B、分子扩散项C、流动区域的流动相传质阻力D、停滞区域的流动相传质阻力

考题 根据范第姆特方程,在填充柱色谱法中,固定相的填充均匀程度主要影响()A、气相传质阻力B、液相传质阻力C、涡流扩散D、分子扩散

考题 填空题1956年荷兰学者范第姆特等人在研究气液色谱时,提出了色谱过程 速率 理论。并导出了范第姆特方程,其数学表达式为H=A+B/u+Cu,式中各项代表的意义是:A是(),B是(),C是(),u是()

考题 填空题根据气相色谱法中范弟姆特方程式H=A+B/u+Cu,试举出至少二种影响柱效、峰扩张的因素,如填充均匀程度、载气流速、()、()。

考题 单选题库仑分析的理论基础是()。A 电解方程式B 法拉第定律C 能斯特方程式D 菲克定律

考题 单选题根据范第姆特方程式,下列说法正确的是()A 最佳流速时,塔板高度最小B 最佳流速时,塔板高度最大C 最佳塔板高度时,流速最小D 最佳塔板高度时,流速最大

考题 单选题根据范第姆特方程式H=A+B/u+Cu,下列说法正确的是()A H越大,则柱效越高,色谱峰越窄,对分离有利B 固定相颗粒填充越均匀,则柱效越高C 载气线速越高,柱效越高D 载气线速越低,柱效越高

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考题 单选题根据范第姆特方程,在填充柱色谱法中,固定相的填充均匀程度主要影响()A 气相传质阻力B 液相传质阻力C 涡流扩散D 分子扩散

考题 单选题在液相色谱中,范第姆特方程式中的哪一项对柱效能的影响可以忽略不计()A 涡流扩散项B 分子扩散项C 流动区域的流动相传质阻力D 停滞区域的流动相传质阻力