考题
药物中的杂质来源于()。
A、原料B、生产所用器皿C、药物氧化、分解产物D、辅料E、试剂、催化剂等
考题
转炉煤气含磷、硫等杂质（），是生产合成氨原料气的一种很好原料，A.为零B.较多C.多D.少
考题
乙烯中主要的杂质是轻油，在生产氯乙烯单体的过程中，油和氯气会激烈地反应，即提供的乙烯原料含多少杂质，主要取决于乙烯的（ ）。
考题
药物制剂(片、注射剂等)中常含有的特殊杂质类型 （ ）。A．不稳定的药物特性B．水解产物c．氧化还原产物D．有害杂质E．信号杂质
考题
药物中的“信号杂质”是指()。
A 毒性较大的有机杂质(如氰化物)B 无害的无机杂质(如氯化物)C 生产过程引入的合成起始原料D 贮藏过程产生的杂质
考题
炽灼残渣检查法主要用于检查A．临床用药剂量小的药物中混有的杂质B．有机药物中混入的各种无机杂质C．价格昂贵的药物中混入的杂质D．注射剂中混入的杂质E．所有的药物无机杂志
考题
绝对纯净的化学试剂是没有的，所有的化学试剂都会含一定量的杂质，我们应该根据分析的要求，选择()的化学试剂。A.纯度越高越好B.所含杂质不影响测试C.所含杂质影响测试D.杂质越小越好
考题
原料药物常含有的杂质不包括A．合成的原料B．中间体C．副产物D．降级产物E．赋形剂
考题
经化学合成制备的药物中，一般含有特殊杂质的类型为 （ ）。A．中间体B．副产物C．剩余原料D．残留试剂E．原料药物
考题
利用药物和杂质的质量不同而除去杂质常采用：A、挑选B、筛选C、风选D、浸泡E、漂洗
考题
生产过程中引入药物杂质的原因不包括A.反应副产物未除尽
B.反应不完全
C.反应中间体未除尽
D.原料不纯
E.药物发生水解
考题
氧瓶燃烧法可用于下列分析的前处理（）A含卤素有机药物的含量测定B含硅有机药物的鉴别C含氟有机药物的鉴定D药物中杂质硒的检查E含金属药物的含量测定
考题
判断反应终点的依据不包括（）A、原料点是否消失B、原料点是否不再变化C、除了产物和原料外是否有新的杂质斑点生成D、是否有新斑点生成
考题
绝对纯净的化学试剂是没有的，所有的化学试剂都会含一定量的杂质，我们应该根据分析的要求，选择（）的化学试剂。A、纯度越高越好B、所含杂质不影响测试C、所含杂质影响测试D、杂质越小越好
考题
药物制成制剂后，主要是原料药中带来的杂质对分析方法产生干扰。
考题
对重整原料的选择有哪些要求？为什么含环烷烃多的原料是重整的良好原料？对几种杂质提出了限量要求？
考题
商品氢氧化钠中为什么常含杂质碳酸钠？如何检验？又如何除去？
考题
原料药物分析方法的选择性应考虑下列哪些物质的干扰（）A、体内内源性杂质B、内标物C、辅料D、合成原料、中间体E、同时服用的药物
考题
根据药物和杂质体积大小不同，除去杂质的方法，常采用（）A、挑选B、筛选C、浸泡D、风选E、漂洗
考题
转炉煤气含磷、硫等杂质（），是生产合成氨原料气的一种很好原料。A、为零B、较多C、多D、少
考题
原料主要控制（）指标A、残炭B、含杂质C、各组份比值
考题
干货原料涨发的目的之一是除去原料本身带有的异味和（）。A、毛皮B、杂质C、黏液D、筋膜
考题
干货原料涨发的卫生要求是、除去泥沙（）、异味、恢复原有的鲜味。A、杂质B、表皮C、腥味D、杂味
考题
原料含有害杂质、使坯、釉料中混入含铁杂质且在坯、釉料精制过程未能充分磨细、过筛会导致产品（）。A、落渣B、斑点C、色脏D、橘釉
考题
单选题转炉煤气含磷、硫等杂质（），是生产合成氨原料气的一种很好原料。A
为零B
较多C
多D
少
考题
单选题原料药物常含有的杂质不包括（）A
合成的原料B
中间体C
副产物D
降级产物E
赋形剂
考题
单选题原料含有害杂质、使坯、釉料中混入含铁杂质且在坯、釉料精制过程未能充分磨细、过筛会导致产品（）。A
落渣B
斑点C
色脏D
橘釉