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单选题
用指示剂（In），以EDTA（Y）滴定金属离子M时常加入掩蔽剂（X）消除某干扰离子（N）的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是（）。
A

KNX＜KNY

B

KNX＞＞KNY

C

KMX＜＜KMY

D

KMIn＞KMX

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考题 在配位滴定中，若指示剂与金属离子形成的配合物很稳定，以致在终点时不能被EDTA置换，这种现象称为指示剂封闭，为消除这种现象，可加入()A、掩蔽剂B、缓冲溶液C、共存离子D、非水溶剂
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考题 在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。 A、控制酸度，降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度，降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
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考题 利用掩蔽剂来()干扰离子的浓度,使之不与EDTA或指示剂络合,这种方法称掩蔽法。 A、降低B、升高C、不改变
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考题 EDTA和金属离子配合物位为MY，金属离子和指示剂的配合物为MIn，当K’MIn>K’MY时，称为指示剂的( )。A.僵化B.失效C.封闭D.掩蔽
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考题 由于某些金属离子的存在，导致加入过量的EDTA滴定剂，指示剂也无法指示终点的现象称为（）。故被滴定溶液中应事先加入（）剂，以克服这些金属离子的干扰。
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考题 络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生（）反应、（）反应和氧化还原反应，以消除干扰。
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考题 在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是（）。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的
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考题 在配位滴定中掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物的稳定性必须大于EDTA与干扰离子所形成的配合物的稳定性。
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考题 在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
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考题 EDTA和金属离子配合物位为MY，金属离子和指示剂的配合物为MIn，当K’MInK’MY时，称为指示剂的（）。A、僵化B、失效C、封闭D、掩蔽
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考题 Ca2+、Fe3+共存的样品中滴定Ca2+，可以加入作掩蔽剂消除干扰（）。
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考题 用EDTA滴定水中的Ca2+、Mg2+时，加入三乙醇胺消除Fe3+的干扰是（）掩蔽法。
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考题 用直接电位法定量时常加入总离子强度调节液，下列对其作用的说法错误的是（）。A、固定溶液的离子强度B、恒定溶液的pH值C、掩蔽干扰离子D、消除液接电位
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考题 配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
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考题 测定钙硬度时，控制PH=（），镁离子以（）而不干扰滴定，以钙指示剂做指示剂，用EDTA滴定，溶液由（）变为（）为终点。
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考题 配位滴定过程中，有哪几种加入掩蔽剂的方法来降低干扰离子的浓度？
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考题 用铬合滴定法测定水的硬度时，如果在滴定过程中发现滴定不到终点或指示剂加入后颜色呈灰紫色时，可能是（）等离子的干扰。遇此情况，可在加指示剂前，用2mL的（）进行联合掩蔽，或先加入（），即可消除干扰。
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考题 EDTA滴定法测定总硬度时，若水样中铁离子≤30mg/L，应在临滴定前加入250mg（）或加入数毫升（），以掩蔽铁离子。
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考题 用EDTA滴定Bi3+，Fe3+混合溶液中Bi3+的含量时，为了消除Fe3+干扰，可加入（）作为掩蔽剂。若用EDTA滴定含有大量Ca2+，Mg2+和少量Fe3+的溶液中Ca2+，Mg2+含量时，消除Fe3+的干扰可加入（）作为掩蔽剂。
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考题 用EDTA滴定金属离子M和N的混合溶液时，已知αY（N）＞αY（H），当被测离子M的浓度为干扰离子N浓度的10倍时，欲采用控制酸度滴定M离子，要求Et≤0.1%，△pM=±0.20，则lgK（MY）–lgK（NY）应（）
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考题 EDTA滴定Zn2+时，加入NH3-NH4Cl是用来（）A、干扰B、反应速度C、使金属离子指示剂变色更敏锐D、溶液中的pH
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考题 填空题EDTA滴定法测定总硬度时，若水样中铁离子≤30mg/L，应在临滴定前加入250mg（）或加入数毫升（），以掩蔽铁离子。
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考题 单选题在配位滴定中，消除金属指示剂僵化现象的方法是（）A 加热B 分离出被测离子C 掩蔽干扰离D 加酸
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考题 多选题配位滴定中，消除共存离子干扰的方法有（）。A控制溶液酸度B使用沉淀剂C使用配位掩蔽剂D使用解蔽剂E使用金属指示剂
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考题 多选题为消除干扰离子的影响，可采用掩蔽法。掩蔽法分为（）。A络合掩蔽；B沉淀掩蔽；C氧化-还原掩蔽；D滴定掩蔽。
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考题 多选题下列情况中受到溶液酸度影响的是（）。A金属离子的最低PHB金属离子的水解效应C金属指示剂D加入掩蔽剂E加入解蔽剂
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考题 填空题络合滴定中加入掩蔽剂的目的是和干扰离子发生（）反应、（）反应和氧化还原反应，以消除干扰。
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