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化学位移

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考题 下面不是脂肪抑制成像技术的是A、化学位移频率选择饱和技术B、化学位移水-脂反相位饱和成像技术C、幅度选择饱和法D、化学位移成像技术E、水激励技术

考题 4’一氧取代的黄酮的1H—NMR特征是A.H--2’,H—6的化学位移为7.10~7.30(D)B.H—2’,H—6’的化学位移为7.20~7.50(D)C.H—2’,H—6’的化学位移为7.60~7.80(D)D.H—2’,H—6’的化学位移为7.70~7.90(D)E.H—2’,H—6’的化学位移为7.90~8.10(D)

考题 有关化学位移伪影的叙述,下列哪一项是错误的( )A.化学位移伪影是一种装备伪影B.化学位移伪影与呼吸运动有关C.化学位移伪影与主磁场强度有关D.化学位移伪影与观察视野有关E.化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

考题 化学位移

考题 什么是化学位移?影响化学位移的因素。

考题 何谓化学位移?它有什么重要性?在1H-NMR中影响化学位移的因素有哪些?

考题 有关化学位移伪影的叙述,下列哪一项是错误()。A、化学位移伪影是一种装备伪影B、化学位移伪影与呼吸运动有关C、化学位移伪影与主磁场强度有关D、化学位移伪影与观察视野有关E、化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

考题 有关化学位移伪影的叙述,下列正确的是()A、化学位移伪影是一种装备伪影B、化学位移伪影与呼吸运动有关C、化学位移伪影与主磁场强度有关D、化学位移伪影以观察视野有关E、化学位移伪影可以通过改变相位编码的方向加以识别

考题 下面不是脂肪抑制成像技术的是()A、化学位移频率选择饱和技术B、化学位移水一脂反相位饱和成像技术C、幅度选择饱和法D、化学位移成像技术E、水激励技术

考题 磁等同核是指:()A、化学位移相同的核B、化学位移不相同的核C、化学位移相同,对组外其他核偶合作用不同的核D、化学位移相同,对组外其他核偶合作用相同的核

考题 氢键对质子的化学位移影响较大,所以活泼氢的化学位移在一定范围内变化。

考题 下面有关化学位移描述正确的是()。A、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值小B、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值大C、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向低场,化学位移δ值小D、质子受到的屏蔽增大,共振频率移向高场,化学位移δ值大

考题 单选题关于化学位移,错误的是(  )。A 化学位移可以引起局部磁场的改变B 化学位移是磁共振波谱的基础C 化学位移饱和成像可用来突出或抑制某种组织的信号D 化学位移特性可消除化学位移伪影E 利用不同分子之间的化学位移,可以生成不同类型的图像

考题 问答题什么是化学位移?影响化学位移的因素。

考题 单选题关于化学位移成像的叙述,错误的是(  )。A 化学位移与磁场强度无关B MRS的成像基础是化学位移C 可利用化学位移来实现抑制脂肪成像D 可利用化学位移来实现抑制水成像E 化学位移会导致化学位移伪影

考题 单选题磁等同核是指:()A 化学位移相同的核B 化学位移不相同的核C 化学位移相同,对组外其他核偶合作用不同的核D 化学位移相同,对组外其他核偶合作用相同的核

考题 问答题什么是化学位移?在哪些分析手段中利用了化学位移?

考题 单选题在相同的化学环境变化下,俄歇峰化学位移与光电子峰化学位移值关系是()A 俄歇位移光电子位移B 俄歇位移光电子位移C 俄歇位移=光电子位移D 无规律可循

考题 单选题TMS的δ=0,从化合物的结构出发,它的正确含义是()。A 不产生化学位移B 化学位移最大C 化学位移最小