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例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

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考题 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。A、负胶受显影液的影响比较小B、正胶受显影液的影响比较小C、正胶的曝光区将会膨胀变形D、使用负胶可以得到更高的分辨率E、负胶的曝光区将会膨胀变形
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考题 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
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考题 晶片经过显影后进行坚膜，坚膜的主要作用有（）。A、除去光刻胶中剩余的溶剂B、增强光刻胶对晶片表面的附着力C、提高光刻胶的抗刻蚀能力D、有利于以后的去胶工序E、减少光刻胶的缺陷
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考题 问答题列出并描述两种主要的光刻胶。
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考题 问答题试举出四例合成类抗真菌药物。（只需写出药名）。
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考题 问答题常见的易燃液体有哪些？举出五例。经常遇到的可燃气体有哪些？举出五例。
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考题 多选题以下属于光刻工艺的为：（）。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀
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