考题
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，浓水流量应为给定范围的下限。A对B错
考题
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。A对B错
考题
给水流量过高或模块堵塞都可能引起EDI模块压差增高。A对B错
考题
进水压力低将导致EDI产品水流量低。A对B错
考题
EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。A对B错
考题
EDI产品水流量低的可能原因（）。A进水压力低B电流太低C进水水质超出允许值D模块堵塞
考题
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。A对B错
考题
EDI模块压差高的可能原因（）。A模块堵塞B进水压力低C给水流量过高D电流太低
考题
切粒机异常停止的可能原因是（）。A、脱盐水流量低报B、入口压力低报C、停电D、熔体过滤器堵塞
考题
为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。
考题
浓水流量低的可能原因（）。A、浓水循环泵运行不正常B、模块堵塞C、给水流量过高D、流量开关故障
考题
给水流量过高或模块堵塞都可能引起EDI模块压差增高。
考题
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。
考题
EDI浓水电导率低的可能原因（）。A、浓水循环量低B、回收率低C、进水电导率下降D、加盐装置故障
考题
EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，浓水流量应为给定范围的下限。
考题
EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。
考题
EDI产品水水质差的可能原因（）。A、进水压力低B、电流太低C、电源极性接反D、进水水质超出允许值
考题
判断题给水流量过高或模块堵塞都可能引起EDI模块压差增高。A
对B
错
考题
判断题EDI为了得到较高电阻率和较低二氧化硅含量的产品水，产品水流量应该在给定范围的上限。A
对B
错
考题
多选题浓水流量低的可能原因（）。A浓水循环泵运行不正常B模块堵塞C给水流量过高D流量开关故障
考题
多选题EDI模块压差高的可能原因（）。A模块堵塞B进水压力低C给水流量过高D电流太低
考题
判断题EDI模块内部树脂再生操作方法：浓水流量、极水流量调整至规定的下限值，产品水流量调整至规定的上限值，慢慢增加电流至规定的上限值。A
对B
错
考题
判断题进水压力低将导致EDI产品水流量低。A
对B
错
考题
判断题为避免EDI组件浓水中离子过度积累，需要将部分浓水排放。排放量为纯水流量10～20％，排放掉的浓水由EDI产品水补充。A
对B
错
考题
多选题EDI产品水水质差的可能原因（）。A进水压力低B电流太低C电源极性接反D进水水质超出允许值
考题
多选题EDI浓水电导率低的可能原因（）。A浓水循环量低B回收率低C进水电导率下降D加盐装置故障