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单选题
邻面近龈处嵌体洞形制备,下列错误的是()
A

一般按箱状洞形制备

B

髓壁应达牙本质内

C

髓壁应平

D

龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致

E

最好在髓壁近远中端牙本质内各做一针道


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考题 面近龈处嵌体洞形制备,下列错误的是A、一般按箱状洞形制备B、髓壁应达牙本质内C、髓壁应平行D、龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致E、最好在髓壁近远中端牙本质内各做一针道

考题 邻面近龈处嵌体洞形制备,下列错误的是A、一般按箱状洞形制备B、髓壁应达牙本质内C、髓壁应平D、龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致E、最好在髓壁近远中端牙本质内各做一针道

考题 根据 G、V、Black 的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的()A.Ⅰ类洞是单面洞B.Ⅱ类洞是复杂洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇颊侧 舌腭面近龈1/3处被破坏所制备的洞形

考题 以下关于邻颌嵌体邻面片切洞形的描述哪项是错误的A.用于邻面缺损面大而浅时B.可在片切面内制备箱型固位C.可在片切面内制备小肩台D.片切面颊舌边缘应达到自洁区E.用于邻面突度较大时

考题 根据G.V.Black的窝洞分类方法,下列哪句话是正确的A.Ⅰ类洞都是单面洞B.Ⅱ类洞都是复面洞C.Ⅰ类洞是后牙窝沟点隙龋坏所制备的洞形D.Ⅲ类洞是前牙邻面未损伤切角的龋坏所制备的洞形E.Ⅴ类洞是后牙唇(颊)舌(腭)面近龈1/3处破坏所制备的洞形

考题 关于邻嵌体邻面片切洞形的描述中错误的是A.用于邻面缺损大而浅时 B.可在片切面内制备箱型固位 C.可在片切面内制备沟固位形 D.用于邻面突度较大时 E.片切面颊舌边缘应达到自洁区

考题 以下关于邻嵌体邻面片切洞形的描述,错误的是 A.用于邻面缺损大而浅时 B.可在片切面内制备箱型固位 C.可在片切面内制备小肩台 D.片切面颊舌边缘应达到自洁区 E.用于邻面突度较大时

考题 以下哪项不是嵌体的适应证()A、年轻恒牙B、面严重磨损需咬合重建C、邻洞上要放置支托D、邻面接触点破坏的牙体缺损E、龈下缺损无法制备充填洞形

考题 下列哪一项不是嵌体制备的基本要求()。A、去除龋坏组织B、邻面可做片切形C、固位力不足应该利用辅助固位形D、洞缘制备短斜面E、洞壁制备倒凹

考题 男,46岁,6|近中邻面龋坏,不松动,已做根管治疗,曾做银汞合金充填,近中邻面事物嵌塞无法解决,现要求嵌体修复下述哪一项不属于嵌体牙体制备的基本要求()。A、去除龋坏腐质B、洞壁制备倒凹C、洞缘制备斜面D、固位力不足应利用辅助固位形E、邻面可做片切形

考题 以下关于邻嵌体邻面片切洞形的描述错误的是()A、用于邻面缺损大而浅时B、可在片切面内制备箱形固位C、可在片切面内制备小肩台D、用于邻面突度较大时E、片切面颊舌边缘应达到自洁区

考题 单选题牙合面近龈处嵌体洞形制备,下列错误的是()A 一般按箱状洞形制备B 髓壁应达牙本质内C 髓壁应平行D 龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致E 最好在髓壁近远中端牙本质内各做一针道

考题 单选题以下关于邻嵌体邻面片切洞形的描述错误的是()A 用于邻面缺损大而浅时B 可在片切面内制备箱形固位C 可在片切面内制备小肩台D 用于邻面突度较大时E 片切面颊舌边缘应达到自洁区

考题 单选题下列哪一项不是嵌体制备的基本要求()。A 去除龋坏组织B 邻面可做片切形C 固位力不足应该利用辅助固位形D 洞缘制备短斜面E 洞壁制备倒凹

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