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使用填充阵列时,实例之间的距离可以调整。


参考答案

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考题 阵列时,要求在基体零件的边线与线性阵列之间保持特定的距离,应选择()。A.保持间距B.随形变化C.阵列随形D.保持形状

考题 ()阵列是借助已有阵列实现新阵列的方法,它的操作对象必须与已有阵列源实例之间具有定位的尺寸关系。 A.尺寸B.旋转C.表D.参照

考题 在创建“阵列”特征的过程中,按照特征的阵列方式可以将其分为() A.尺寸、方向、轴、表、填充、参照B.尺寸、旋转、轴、表、填充、参照C.尺寸、方向、旋转、表、填充、参照D.尺寸、方向、轴、表、旋转、参照

考题 使用填充阵列时,实例之间的距离可以调整。 A.错误B.正确

考题 在SolidWorks中除可以生成线性阵列、圆周阵列外还可以生成()。A、曲线驱动的阵列B、填充阵列C、使用草图点生成阵列D、使用表格坐标生成阵列

考题 在草图驱动的阵列中,如何删除阵列实例?()A、选择可跳过实例B、修改草图,删除相应的草图点C、选择实例,按Del键D、压缩欲删除实例

考题 在特征的线性阵列中,其中参数“几何体阵列”是()。A、可以阵列特征的每个实例B、可以求解特征的每个实例C、只使用特征的几何体(面和边线)来生成阵列D、以上都可以

考题 阵列时,要求在基体零件的边线与线性阵列之间保持特定的距离。应选择()。A、保持间距B、随形变化C、阵列随形D、保持形状

考题 在SW中,当创建阵列特征时,可以选择跳过的实例。

考题 阵列时,您可能希望在基体零件的边线与阵列特征之间保持特定的距离。应选择()A、保持间距B、阵列随形C、随形变化

考题 在使用蒙板时,下面那些可以是用来遮盖的对象()A、填充的形状B、文本对象C、图形元件D、电影剪辑的实例

考题 使用油漆桶工具所能够实现的填充效果是()。A、可以使用背景色或者50%灰度填充B、可以通过“拾色器”调整填充颜色C、可以使用前景色或者图案填充D、可以设置填充的模式、不透明度

考题 图案填充时,可以()。A、将光标移至闭合区域预览填充结果B、为填充图案指定背景色C、使用夹点不能调整非关联图案填充D、使用夹点能调整非关联图案填充

考题 ()阵列是借助已有阵列实现新阵列的方法,它的操作对象必须与已有阵列源实例之间具有定位的尺寸关系。A、尺寸B、旋转C、表D、参照

考题 在创建“阵列”特征的过程中,按照特征的阵列方式可以将其分为()A、尺寸、方向、轴、表、填充、参照B、尺寸、旋转、轴、表、填充、参照C、尺寸、方向、旋转、表、填充、参照D、尺寸、方向、轴、表、旋转、参照

考题 在绘制图形时,当图形的填充是渐变填充时,下列关于“填充变形”工具描述错误的是()。A、使用“中心点”手柄可以更改渐变的中心点B、使用“焦点”可以改变渐变的焦点。仅当选择放射状渐变时,才显示焦点手柄C、使用“旋转”手柄可以调整渐变的方向。使用“宽度”手柄可以调整渐变的宽度D、使用“锁定”手柄,可以实现渐变背景锁定,使舞台上多个独立对象共享同一个渐变色

考题 下列关于填充的说法正确的是()A、可以对渐变填充对象使用图案填充B、使用“渐变”工具对像素选区进行渐变填充后,可以拖动手柄调整对象的填充C、“无”、“实心”、“图案”和“网页抖动”以外的填充类别皆为渐变填充D、以上说法都正确

考题 使用()面板可以复制、删除调色板中的颜色,使用()面板可以调整渐变填充和位图填充。

考题 多选题使用油漆桶工具所能够实现的填充效果是()。A可以使用背景色或者50%灰度填充B可以通过“拾色器”调整填充颜色C可以使用前景色或者图案填充D可以设置填充的模式、不透明度

考题 多选题在SolidWorks中除可以生成线性阵列、圆周阵列外还可以生成()。A曲线驱动的阵列B填充阵列C使用草图点生成阵列D使用表格坐标生成阵列

考题 单选题()阵列是借助已有阵列实现新阵列的方法,它的操作对象必须与已有阵列源实例之间具有定位的尺寸关系。A 尺寸B 旋转C 表D 参照

考题 填空题使用()面板可以复制、删除调色板中的颜色,使用()面板可以调整渐变填充和位图填充。

考题 单选题图案填充时,可以()。A 将光标移至闭合区域预览填充结果B 为填充图案指定背景色C 使用夹点不能调整非关联图案填充D 使用夹点能调整非关联图案填充

考题 单选题在草图驱动的阵列中,如何删除阵列实例?()A 选择可跳过实例B 修改草图,删除相应的草图点C 选择实例,按Del键D 压缩欲删除实例

考题 判断题使用填充阵列时,实例之间的距离可以调整。A 对B 错

考题 单选题在特征的线性阵列中,其中参数“几何体阵列”是()。A 可以阵列特征的每个实例B 可以求解特征的每个实例C 只使用特征的几何体(面和边线)来生成阵列D 以上都可以

考题 单选题阵列时,要求在基体零件的边线与线性阵列之间保持特定的距离。应选择()。A 保持间距B 随形变化C 阵列随形D 保持形状