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全口义齿印模和模型的制作中,以下不正确的是

A.在印模膏阴模的组织面和边缘均匀地刮除2mm左右

B.灌注的模型厚度不超过10mm

C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后 2mm的连线

D.用刀沿上述连线刻一深约1~1.5mm的沟

E.沿上述的沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm


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考题 全口义齿上颌后堤区的最宽区域为A、腭中缝处B、两侧翼上颌切迹处C、上颌结节处D、腭中缝两侧与翼上颌切迹之间的区域E、腭小凹后约2mm处

考题 上颌后堤区的形成方法,不正确的是A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mmB、上颌后堤区位于前后颤动线之间C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mmD、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘E、两侧牙槽嵴越浅

考题 全口义齿印模型的制作中,以下不正确的是A、个别托盘制作是在印模膏印模的组织面和边缘刮除2mm左右B、灌注的模型厚度不超过10mmC、用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D、用刀沿上述连线刻一条深1~1.5mm的沟E、沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 全1:2义齿印模型的制作中,以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm 左右B.灌注的模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D.用刀沿上述连线刻一深1~1.5mm的沟E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 为加强上全口固位需作上颌后堤沟,后堤沟位于A.前颤动线处B.后颤动线处C.软、硬腭之间D.腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处E.腭小凹与上颌结节连线后1mm处

考题 全口义齿印模和模型的制作不正确的是( )A.上托盘的宽度应比上颌牙槽嵴宽2~3mmB.灌注的石膏模型厚度不超过10mmC.用铅笔画出两侧翼上颌切迹与腭小凹后4mm的连线D.用刀沿上述连线刻一深约1~1.5mm的沟E.沿上述的沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 上颌后堤区的形成方法,不正确的是A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mmB、上颌后堤区位于前后颤动线之间C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mmD、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘E、上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

考题 上颌全口义齿基托后缘位置是A.翼上颌切迹与腭小凹后2mm连线 B.翼上颌切迹与腭小凹前2mm连线 C.翼上颌切迹与腭小凹连线 D.上颌结节与腭小凹后2mm连线 E.上颌结节与腭小凹连线

考题 全口义齿印模型的制作中,以下不正确的是A.在印模的组织面和边缘刮除2mm左右 B.灌注的模型厚度不超过10mm C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线 D.用刀沿上述连线刻一深1~1.5mm的沟 E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 全口义齿印模型的制作中,以下不正确的是A.在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右 B.灌注的模型厚度不超过10mm C.用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线 D.用刀沿上述连线刻一深1~1.5mm的沟 E.沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 全口义齿印模型的制作中,以下不正确的是()A、在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右B、灌注的模型厚度不超过10mmC、用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D、用刀沿上述连线刻一深1~1.5mm的沟E、沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 上颌全口义齿基托后缘位置是()A、翼上颌切迹与腭小凹后2mm连线B、翼上颌切迹与腭小凹前2mm连线C、翼上颌切迹与腭小凹连线D、上颌结节与腭小凹后2mm连线E、上颌结节与腭小凹连线

考题 全口义齿印模和模型的制作中,以下不正确的是()A、在印模膏阴模的组织面和边缘均匀地刮除2mm左右B、灌注的模型厚度不超过10mmC、用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的连线D、用刀沿上述连线刻一深约1~1.5mm的沟E、沿上述的沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 单选题全口义齿印模型的制作中,以下不正确的是()A 在印模膏阴模的组织面和边缘刮除2mm左右B 灌注的模型厚度不超过10mmC 用铅笔画出两侧翼上颌切迹和腭小凹后2mm的线D 用刀沿上述连线刻一深1~1.5mm的沟E 沿上述沟向前逐渐变浅刮除石膏,最宽处约5mm

考题 单选题上颌后堤区的形成方法,不正确的是(  )。A 上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mmB 上颌后堤区位于前后颤动线之间C 用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mmD 一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘E 上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅