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23#触媒的活性成分是MOO3载体是Si2O3


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考题 程序执行结果s的值是【 】.Private Sub Command l-Click ()I =0DoS= I +SI = I + lLoop Until I >=4End Sub

考题 下列指令中合法的是( )。A.ADD CS,BXB.MOV 45H,AXC.SUB [AX],[57H]D.MOV SI,[SI]

考题 23#触媒中的活性成分有()A、CO2B、COOC、MOO3 D、CO

考题 23#现使用的触媒是山东齐鲁QDB—04触媒。

考题 23#触媒为何要再生()A、提高床层温度B、提高触媒活性C、降低床层温度

考题 23#变换触媒型号()产地()活性成分()载体()操作温度()外形尺寸()。

考题 23#催化剂为什么要硫化()A、使氧化态触媒还原,得到活性。B、使触媒变成氧化态,提高活性成分。C、使触媒中的硫得到释放。

考题 有程序如下: ORG 2800H BUF DB 67,4,57,34,89,123 START:MOV SI, 04 MOV BX, OFFSET BUF MOV AL, [BX+ SI] CALL SUB1 INT 3 SUB1: PUSHF MOV AH, OOH MOV BL, OAH DIV BL POPF RET该程序运行后,AH= ()AL=()

考题 钴-钼加氢触媒型号为(),主要成分()活性组分是()载体是()。

考题 SUB [SI],DA_BYTE

考题 下列指令中段默认为堆栈段的是()A、MOVAX,[BX+SI+10]B、ADDAX,ES:[SI]C、SUB[BX],[BP][DI]D、MOVDX,[1000H]

考题 35#触媒活性成分()载体()。

考题 23#触媒的活性成分是()A、MOO3/CoOB、H2S/SC、MO/COD、CO/H2

考题 23#触媒的载体为()A、CS2B、Si2O3 C、H2S

考题 单选题干熄焦循环气体的主要成分为N2,其他成分还有H2、CH4、CO等气体,其中属于不可燃组分是( )。A pNsub2/sub /pB pHsub2/sub/pC pCHsub4/sub/pD CO

考题 多选题23#触媒中的活性成分有()ACO2BCOOCMOO3DCO

考题 单选题23#触媒的活性成分是()A MOO3/CoOB H2S/SC MO/COD CO/H2

考题 判断题SUB [SI],DA_BYTEA 对B 错

考题 判断题23#触媒的活性成分是MOO3载体是Si2O3。A 对B 错

考题 填空题有程序如下: ORG 2800H BUF DB 67,4,57,34,89,123 START:MOV SI, 04 MOV BX, OFFSET BUF MOV AL, [BX+ SI] CALL SUB1 INT 3 SUB1: PUSHF MOV AH, OOH MOV BL, OAH DIV BL POPF RET该程序运行后,AH= ()AL=()

考题 单选题A pIsub2/sub=Isub3/sub/pB pIsub2/sub=4Isub3/sub/pC pIsub2/sub=2Isub3/sub/pD pIsub3/sub=4Isub2/sub/p

考题 多选题在过程控制中,若TL=-3,Tu=3,u=1,σ=1,则(  )。ACsubP/sub=1 BCsubP/sub=2/3 CCsubPk/sub=1 DCsubPk/sub=2/3

考题 单选题23#催化剂为什么要硫化()A 使氧化态触媒还原,得到活性。B 使触媒变成氧化态,提高活性成分。C 使触媒中的硫得到释放。

考题 单选题23#触媒为何要再生()A 提高床层温度B 提高触媒活性C 降低床层温度

考题 单选题23#触媒的载体为()A CS2B Si2O3 C H2S

考题 填空题35#触媒活性成分()载体()。

考题 填空题23#变换触媒型号()产地()活性成分()载体()操作温度()外形尺寸()。