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咬合面Ⅰ类洞充填银汞合金时的制备要点之一为

A．洞外形可以不成圆缓曲线

B．洞深度至少达釉牙本质界

C．近远中壁应与斜嵴呈钝角

D．窝洞侧壁应与髓壁呈锐角

E．洞面角呈直角、无短斜面

参考答案

更多 “ 咬合面Ⅰ类洞充填银汞合金时的制备要点之一为A．洞外形可以不成圆缓曲线B．洞深度至少达釉牙本质界C．近远中壁应与斜嵴呈钝角D．窝洞侧壁应与髓壁呈锐角E．洞面角呈直角、无短斜面 ” 相关考题
考题 窝洞制备时，对抗力形要求A．洞的深度达到釉牙本质界下0． 5mmB．盒状洞形底平，壁直C．洞缘曲线圆钝D．去除薄壁弱尖E．以上均是
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考题 同时具有抗力型和固位形的设计是()A.洞深达釉牙本质界下0.2~0.5mmB.梯阶的形成C.除去无基釉D.洞缘外形线要求为园缓曲线E.以上均不是
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考题 窝洞制备中,以下不属于抗力形设计的是() A、盒状洞形B、有一定深度C、邻(牙合)面洞制备阶梯D、邻(牙合)面洞制备梯形E、窝洞外形呈圆缓曲线
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考题 窝洞制备中，以下不属于抗力形设计的是A．盒状洞形B．有一定深度C．邻面洞制备阶梯D．邻面洞制备梯形E．窝洞外形呈圆缓曲线
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考题 复合树脂充填时洞缘斜面制备在()A.洞缘釉质处B.洞壁牙本质处C.洞缘的釉牙本质处D.洞缘的牙骨质处E.洞缘的咬合接触点处
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考题 咬合面窝洞制备时洞缘要求，除外A．洞缘线圆缓B．沿窝沟外形扩展C．避开咬合力部位D．去除无基釉质E．制备短斜面
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考题 窝洞制备时，对抗力形要求A.洞的深度达到釉牙本质界下0.2～0.5mmB.盒状洞形底平，壁直C.洞缘曲线圆钝D.去除薄壁弱尖E.以上均是
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考题 窝洞制备中，不属于抗力形设计的是A.去除无基釉B.去除薄壁弱尖C.邻牙面洞制备阶梯D.邻牙面洞制备梯形E.窝洞外形为圆缓曲线
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考题 窝洞制备时，对抗力形要求A:洞的深度达到釉牙本质界下0.2～0.5mm B:盒状洞形底平，壁直 C:洞缘曲线圆钝 D:去除薄壁弱尖 E:以上均是
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考题 窝洞制备时，对于抗力形的要求，错误的是A.去除薄壁弱尖 B.洞缘曲线圆钝 C.盒形洞形：底平，壁直 D.洞的深度达到釉牙本质界下0.5mm E.复面洞阶梯的龈壁为向颈方的斜面
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考题 窝洞制备中，以下不属于抗力形设计的是（）A、盒状洞形B、有一定深度C、邻面洞制备阶梯D、邻面洞制备梯形E、窝洞外形呈圆缓曲线
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考题 窝洞制备中，以下不属于抗力形设计的是（）A、去除无基釉B、去除薄壁弱尖C、邻合面洞制备阶梯D、邻合面洞制备梯形E、窝洞外形为圆缓曲线
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考题 咬合面Ⅰ类洞充填银汞合金时的制备要点之一为（）。A、洞外形可以不成圆缓曲线B、洞深度至少达釉牙本质界C、近远中壁应与斜嵴呈钝角D、窝洞侧壁应与髓壁呈锐角E、洞面角呈直角、无短斜面
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考题 复合树脂充填时洞缘斜面制备在（）A、洞缘釉质处B、洞壁牙本质处C、洞缘的釉牙本质处D、洞缘的牙骨质处E、洞缘的咬合接触点处
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考题 单选题窝洞制备中，以下不属于抗力形设计的是（）A 盒状洞形B 有一定深度C 邻面洞制备阶梯D 邻面洞制备梯形E 窝洞外形呈圆缓曲线
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考题 单选题窝洞制备中，以下不属于抗力形设计的是（）A 去除无基釉B 去除薄壁弱尖C 邻合面洞制备阶梯D 邻合面洞制备梯形E 窝洞外形为圆缓曲线
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考题 单选题咬合面Ⅰ类洞充填银汞合金时的制备要点之一为（）.A 洞外形可以不成圆缓曲线B 洞深度至少达釉牙本质界C 近远中壁应与斜嵴呈钝角D 窝洞侧壁应与髓壁呈锐角E 洞面角呈直角、无短斜面
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考题 单选题Ⅱ类洞的咬合面窝洞制备要点不包括（　　）。A 鸠尾外形线呈圆缓曲线B 底平壁直线角清晰圆缓C 深度恰当而且均匀一致D 鸠尾峡位于颊尖任何处E 鸠尾外形应顺窝沟扩展
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