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多选题
利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面？（）
A

一般

B

相同

C

变化

D

圆形

参考答案

参考解析
解析： 暂无解析
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考题 利用哪个阵列所建立特征可以相互干涉?() A.相同B.一般C.变化D.新参照
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考题 利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面?() A.一般B.相同C.变化D.圆形
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考题 若要删除所有由阵列所建立的特征,并保留原始特征,应使用“删除”命令。 A．错误B．正确
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考题 以下关于对称，不正确的叙述是（）：A、平面中的点对称可以通过环型阵列实现。B、平面中的轴对称可以通过矩形阵列实现。C、平面中的轴对称可以通过“MIRRIOR”命令实现。D、三维中的平面对称可以通过三维镜像实现。
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考题 在零件中可以将特征进行压缩处理，对阵列的源特征压缩，该阵列特征不被压缩。
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考题 在特征的线性阵列中，其中参数“几何体阵列”是（）。A、可以阵列特征的每个实例B、可以求解特征的每个实例C、只使用特征的几何体（面和边线）来生成阵列D、以上都可以
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考题 实体编辑中草图驱动的阵列是指利用草图中的（）指定特征阵列。A、曲线B、直线C、草图点D、以上都不是
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考题 以下不属于放置特征的是（）。A、拉伸B、拔模斜度C、倒角D、阵列
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考题 草图特征和放置特征有什么不同？（）A、创建草图特征花费的时间更少一些B、放置特征不需要草图，只需要指定放置位置和尺寸大小C、草图特征总是需要工作平面和工作点D、放置特征总是零件的第一个特征
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考题 基准点的用途有哪些？（）A、作为建立其它基准特征的参考点B、定义孔特征的放置位置C、定义注释箭头指向的位置D、辅助建立或调整复杂曲面
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考题 利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面？（）A、一般B、相同C、变化D、圆形
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考题 利用哪个阵列所建立特征可以相互干涉？（）A、相同B、一般C、变化D、新参照
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考题 若要删除所有由阵列所建立的特征，并保留原始特征，应使用“删除”命令。
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考题 可以按照规律改变阵列特征的尺寸。
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考题 多选题对于孔特征放置面可以是（）A圆柱面B圆锥面C平面D基准面
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考题 单选题以下不属于放置特征的是（）。A 拉伸B 拔模斜度C 倒角D 阵列
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考题 单选题实体编辑中草图驱动的阵列是指利用草图中的（）指定特征阵列。A 曲线B 直线C 草图点D 以上都不是
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考题 单选题以下说法有误的是（）A 可以在平面视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗B 可以在立面视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗C 不可以在剖面视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗D 可以在三维视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗
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考题 单选题创建阵列特征时，输入阵列成员数（）。A 包括了原有特征B 不包括原有特征C 可以包括也可以不包括
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考题 多选题利用哪些阵列所建立的特征可以超过放置平面？（）A一般B相同C变化D圆形
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考题 判断题在零件中可以将特征进行压缩处理，对阵列的源特征压缩，该阵列特征不被压缩。A 对B 错
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考题 问答题哪些特征不能建立特征引用阵列（Instance Feature）？
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考题 判断题在装配中，当建立特征引用集阵列时，必须通过装配约束定位作为阵列模板的组件。A 对B 错
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考题 判断题若要删除所有由阵列所建立的特征，并保留原始特征，应使用“删除”命令。A 对B 错
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考题 单选题利用哪个阵列所建立特征可以相互干涉？（）A 相同B 一般C 变化D 新参照
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考题 单选题以下建筑视图说法有误的是（）A 可以在平面视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗B 可以在立面视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗C 可以在图例视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗D 可以在三维视图中移动、复制、阵列、镜像、对齐门窗
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考题 单选题在特征的线性阵列中，其中参数“几何体阵列”是（）。A 可以阵列特征的每个实例B 可以求解特征的每个实例C 只使用特征的几何体（面和边线）来生成阵列D 以上都可以
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考题 多选题下列哪几个选项是组件阵列中可以选择的类型？（）A线性阵列B圆形阵列C镜像阵列D按阵列特征进行阵列
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