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单选题
最先对布图设计进行立法保护的国家是    (    )
A

美国

B

英国

C

日本

D

墨西哥


参考答案

参考解析
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考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》,下列表述正确的有()A.布图设计专有权的取得方式是登记B.布图设计专有权的保护期为10年,自授权公告之日起算C.对布图设计专有权可以适用强制许可D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

考题 依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定,下列表述中正确的是()A.外国人在中国境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 我国立法中对布图设计的保护采用了()原则。A.国民待遇B.最惠国待遇C.差别待遇D.对等原则

考题 根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算

考题 以下关于集成电路布图设计的说法错误的有( ) A.集成电路布图设计的主体是指依法对集成电路布图设计享有专有权的自然人法人或其他组织。 B.客体是集成电路而不是布图设计。 C.受保护的集成电路布图设计应该具有独创性。 D.受保护的集成电路布图设计不能是显而易见的

考题 以下情况中,布图设计不受保护的有( ) A.具有独创性的布图设计 B.未经登记的布图设计 C.布图设计的思想 D.具有实用性的布图设计

考题 根据《集成电路布图设计保护条例》及其他相关规定,下列哪些说法是正确的?( )A.布图设计登记申请的申请文件未使用中文的,国家知识产权局不予受理 B.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行初步审查 C.国家知识产权局应当对布图设计登记申请进行实质审查 D.布图设计明显不符合该条例所规定的布图设计定义的,国家知识产权局应当作出驳回决定

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些说法是正确的?()A、受保护的集成电路布图设计应当是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计B、受保护的集成电路布图设计应当富有美感C、对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等D、集成电路布图设计专有权自创作完成之日起产生

考题 根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

考题 布图设计不予保护的,有下列哪种?()A、采用常规设计的布图设计B、布图设计的设计思想C、未经登记的布图设计D、具有独创性的布图设计

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬?()A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

考题 我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A、《集成电路布图设计保护条例》B、《集成电路布图设计保护法》C、《专利法》

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 我国立法中对布图设计的保护采用了()原则。A、国民待遇B、最惠国待遇C、差别待遇D、对等原则

考题 对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的行为是()。A、违法行为B、犯罪行为C、对布图设计的合理使用D、对布图设计的滥用

考题 单选题在《知识产权协定》规定的集成电路布图设计中,不违法的是 ( )A 为商业目的进口布图设计B 销售受保护的布图设计C 在没有理由知道的情况下分售含有受保护布图设计的集成电路D 销售含有受保护的布图设计的集成电路的物品

考题 多选题布图设计不予保护的,有下列哪种?()A采用常规设计的布图设计B布图设计的设计思想C未经登记的布图设计D具有独创性的布图设计

考题 单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定,下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可()。A 甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B 乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C 丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D 丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬?()A为个人目的而复制受保护的布图设计B为研究目的而复制受保护的布图设计C在评价、分析受保护的布图设计的基础上,创作出具有独创性的布图设计D对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用

考题 多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权?()A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

考题 单选题最先对布图设计进行立法保护的国家是 ( )A 美国B 日本C 英国D 德国

考题 单选题我国保护集成电路布图设计的法律法规是()。A 《集成电路布图设计保护条例》B 《集成电路布图设计保护法》C 《专利法》

考题 不定项题依据我国《集成电路布图设计保护条例》,下列表述正确的有()A布图设计专有权的取得方式是登记B布图设计专有权的保护期为10年,自授权公告之日起算C对布图设计专有权可以适用强制许可D对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效

考题 单选题我国立法中对布图设计的保护采用了()原则。A 国民待遇B 最惠国待遇C 差别待遇D 对等原则

考题 单选题关于布图设计权产生的形式条件,通常不包括()A 该布图设计必须由个人对立创造B 该布图设计必须投入商业实施C 受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D 受保护的布图设计必须办理登记手续