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初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）
- A、不必处理
- B、腭杆组织面加白凝树脂重衬
- C、腭杆组织面缓冲
- D、去腭杆，让患者戴走
- E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考答案
更多 “初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆，让患者戴走E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆” 相关考题
考题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆，让患者戴走E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A．不必处理B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．去除腭杆，让患者将义齿戴走E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A.不做处理
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.基托组织面缓冲
D.取下腭杆，用自凝树脂修补缺口
E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A.不必处理
B.取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
C.腭杆组织面加白凝树脂重衬
D.去腭杆，让患者戴走
E.腭杆组织面缓冲
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A、不做处理，让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm，应采取的处理为（ ）。A
不必处理B
腭杆组织面缓冲C
腭杆组织面加自凝树脂重衬D
去腭杆，让患者戴走E
取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）A
不必处理B
腭杆组织面加白凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
去腭杆，让患者戴走E
取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A
不做处理，让患者将义齿戴走B
腭杆组织面加自凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A
腭杆组织面加自凝树脂重衬B
不做处理，让患者将义齿戴走C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复，义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是下列哪项？（ ）A
取下腭杆B
腭杆组织面做缓冲C
腭杆组织面加自凝树脂重衬D
不做任何处理E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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