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有下列原子序数的二价离子，只能形成外轨型配合物的是（）
- A、26
- B、27
- C、28
- D、30
参考答案
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考题
关于高低自旋的判断规则，下列说法正确的是（）A、第二、三系列过渡金属，几乎都形成高自旋配合物B、除[Co（H2O）6]3+外，其余金属离子与H2O形成的配合物均是高自旋C、所有F-配合物均为低自旋D、所有CN-配合物均为高自旋
考题
已知配离子[28Ni（H2O）4]2+为顺磁性物质，则该配离子是（）A、内轨配合物，dsp2杂化B、外轨形配合物，sp3杂化C、外轨形配合物，sp3d2杂化D、内轨配合物，d2sp3杂化
考题
下列关于配合物的叙述中错误的是（）A、高自旋的八面体配合物的CFSE不一定小于低自旋的CFSEB、同种元素的内轨型配合物比外轨型配合物稳定C、中心离子的未成对电子愈多，配合物的磁矩愈大D、价键理论的内轨型配合物对应着晶体场理论的高自旋配合物
考题
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
考题
配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。A、掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
考题
关于硼族元素所形成的化合物的类型，下列叙述错误的是（）A、硼只能形成共价化合物B、除硼外，其它元素都可以形成纯离子化合物C、除硼外，其它元素都可以形成离子化合物，但M（Ⅲ）化合物有一定程度的共价性D、Tl+化合物是稳定的离子化合物
考题
关于外轨型与内轨型配合物的区别，下列说法不正确的是（）A、中心原子杂化方式在外轨型配合物是ns，np，nd轨道杂化，内轨 型配合物是（n-1）d，ns，np轨道杂化B、形成外轨配合物时中心原子d电子排布不变，而形成内轨配合物时中心原子d电子一般发生重排C、通常外轨型配合物比内轨型配合物磁矩小D、相同中心利息形成相同配合数的陪离子时，一般内轨型稳定
考题
下列表述中错误的是（）A、[Fe（H2O）6]3+，属外轨型配合物B、[Ni（CN）4]2－，属内轨型配合物C、[Ni（NH3）4]2+，属内轨型配合物D、[Fe（CN）6]4－，属内轨型配合物
考题
单选题价键理论的解释正确的是（）。A
不是所有的中心原子都能生成内轨型配合物B
不是所有的中心原子都能生成外轨型配合物C
中心离子用于形成配位键的轨道是杂化轨道D
正电荷高的中心离子形成的配合物都是杂化轨道
考题
多选题蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。A增加二价铜离子的浓度B使一价铜生成配合物C使一价铜生成沉淀D减少二价铜离子的浓度
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