考题
在氯化物检查中，反应溶液需在“暗处”放置5分钟后再比较独度，目的是()A.避免碳酸银沉淀生成B.避免单质银析出C.避免氯化银沉淀生成D.使生成的氯化银沉淀溶解E.避免氯化银沉淀析出
考题
使用均匀沉淀法的主要目的是( )
A. 防止混晶生成B. 减少继沉淀C. 使沉淀更加完全D. 得到大颗粒沉淀
考题
利用生成混合晶体进行共沉淀常用的混晶体有()PbSO4等。混晶体一种是被测物,另一种是其沉淀物,本法选择性比吸附共沉淀法高。
A、Na2CO3B、CaSO4C、BaSO4D、KNO3
考题
利用无机共沉淀剂进行共沉淀主要有表面吸附共沉淀和生成混品共沉淀两种方法。()
此题为判断题(对，错)。
考题
为避免沉淀剂在溶液中局部过浓可采用均匀沉淀法。此题为判断题(对，错)。
考题
在氯化物检查中，暗处避光放置5min的目的是A.避免碳酸银沉淀的生成B.避免氧化银沉淀的生成C.避免磷酸银沉淀的生成D.避免氯化银沉淀的生成E.以上都不是
考题
氯化物检查中，需在暗处放置5分钟，目的是( )A.避免生成磷酸银沉淀
B.避免生成碳酸银沉淀
C.避免氯化银沉淀生成
D.避免析出单质银
E.促使氯化银沉淀溶解
考题
化学沉淀法与混凝沉淀相比较，其相同点是（）A、处理方法B、投加药剂C、有沉淀物生成D、去除的对象
考题
共沉淀现象可能是由（）等原因产生的。A、表面吸附B、生成混晶C、放置时间长D、吸留E、包藏
考题
氯化物检查中，需在暗处放置5分钟，目的是（）A、避免氯化银沉淀生成B、促使氯化银沉淀溶解C、避免生成碳酸银沉淀D、避免析出单质银E、避免生成磷酸银沉淀
考题
在氯化物检查中，暗处避光放置5min的目的是（）A、避免碳酸银沉淀的生成B、避免氧化银沉淀的生成C、避免磷酸银沉淀的生成D、避免氯化银沉淀的生成E、以上都不是
考题
氯化物检查中，反应溶液需在暗处放置5分钟后再比较浊度，目的是（）。A、避免氯化银沉淀析出B、使生成的氯化银沉淀溶解C、避免碳酸银沉淀生成D、避免单质银析出E、避免氯化银沉淀生成
考题
形成共沉淀现象的原因有（）。A、表面吸咐B、生成混晶C、吸留D、陈化E、包藏
考题
用洗涤的方法能有效地提高沉淀纯度的是（）。A、混晶共沉淀B、吸附共沉淀C、包藏共沉淀D、后沉淀
考题
沉淀完成后进行陈化是为了（）。A、使无定形沉淀转变为晶形沉淀B、使沉淀更为纯净，同时使颗粒变大C、除去混晶共沉淀带人的杂质D、加速后沉淀作用
考题
要得到颗粒大又纯净的晶形沉淀，又可避免沉淀时局部过浓现象发生，应采取的措施是（）。A、采用均相沉淀法B、采用边搅拌边加沉淀剂的方法C、沉淀时加入适量电解质D、沉淀应在较浓的溶液中进行
考题
下列有关沉淀纯净叙述错误的是（）。A、洗涤可减免吸留的杂质B、洗涤可减少吸附的杂质C、易生成混晶的杂质应事先分离除去D、沉淀完成后立即过滤可防止后沉淀
考题
Ra2+与Ba2+的离子结构相似，因此可以利用BaSO4沉淀从溶液中富集微量Ra2+，这种富集方式是利用了（）A、混晶共沉淀B、包夹共沉淀C、表面吸附共沉淀D、固体萃取共沉淀
考题
如果共沉淀的杂质离子与沉淀的构晶离子半径相近，电荷相同，则易形成（）A、表面吸附B、混晶C、机械吸留D、后沉淀
考题
共沉淀分离根据共沉淀剂性质可分为混晶共沉淀分离和胶体凝聚共沉淀分离。
考题
均匀沉淀法是利用在溶液中（）而产生沉淀剂，使沉淀在整个过程中缓慢而均匀地析出，这种方法避免了（）现象，从而获得大颗粒的纯净晶形沉淀。
考题
问答题直接沉淀法和均匀沉淀法在工艺上有何不同？哪种方法产生的粒子更均匀？
考题
单选题在氯化物检查中，暗处避光放置5min的目的是（）A
避免碳酸银沉淀的生成B
避免氧化银沉淀的生成C
避免磷酸银沉淀的生成D
避免氯化银沉淀的生成E
以上都不是
考题
单选题氯化物检查中，需在暗处放置5分钟，目的是（）A
避免氯化银沉淀生成B
促使氯化银沉淀溶解C
避免生成碳酸银沉淀D
避免析出单质银E
避免生成磷酸银沉淀
考题
单选题氯化物检查中，反应溶液需在暗处放置5分钟后再比较浊度，目的是（）。A
避免氯化银沉淀析出B
使生成的氯化银沉淀溶解C
避免碳酸银沉淀生成D
避免单质银析出E
避免氯化银沉淀生成