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半导体三极管工作过程中（）。

  • A、发射区杂质浓度大于基区杂质浓度；
  • B、发射区杂质浓度小于基区杂质浓度；
  • C、发射区杂质浓度等于基区杂质浓度；
  • D、发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

参考答案

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