记存研究模型基底部分的高度为解剖部分高度的A、1/3～1/2倍B、5倍C、5～2倍D、5～3倍E、1/5～1/4

题目内容（请给出正确答案）

记存研究模型基底部分的高度为解剖部分高度的

A、1/3～1/2倍

B、5倍

C、5～2倍

D、5～3倍

E、1/5～1/4

参考答案

考题记存研究模基底部分的高度约为解剖部分高度的A、1/5～1/4B、1/3～1/2C、5倍D、5倍E、5倍

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考题记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的A、1／3～1／2B、1／4～1／2C、2／3～3／4D、1／5～1／3E、1／2～3／4

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考题记存的研究模型分解剖部分和基底部分，基底部分的高度约为解剖部分的A、1/5～1／4B、1／4～1／3C、1／3～1／2D、1／2～2/3E、1

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考题釉丛高度为（）A．釉质厚度B．釉梭高度的1/5C．釉梭高度的1/4D．釉质厚度的1/5～1/4E．以上均不对

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考题记存研究模型上下颌对颌后的总高度应约等于上颌模型高度的A、6倍B、5倍C、4倍D、2倍E、3倍

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考题用来记录存放的研究模型分为解剖部分和基底部分，基底部分的高度约为解剖部分的( )。A、1/5～1/4B、1/4～1/3C、1/3～1/2D、1/2～2/3E、1

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考题记存研究模型基底部分的高度约为解剖部分高度的A、1/3～1/2倍B、1～1.5倍C、1.5～2倍D、2.5～3倍E、1/5～1/4

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考题釉丛的高度为A.釉质的全厚B.釉质厚度的1/5～1/4C.釉梭高度的1/2D.釉板高度的1/4E.施雷格板高度的1/5

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考题记存的研究模型分解剖部分和基底部分，基底部分的高度约为解剖部分的A.1/5～1／4 B.1 C.1／3～1／2 D.1／4～1／3 E.1／2～2/3

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