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1、简述速率方程中A、B、C三项的含义。


参考答案和解析
A.称为涡流扩散项 , B 为分子扩散项, C 为传质阻力项。 (1) 涡流扩散项 A :气体碰到填充物颗粒时,不断地改变流动方向,使试样组分在气相中形成类似“涡流”的流动,因而引起色谱的扩张。使用适当细粒度和颗粒均匀的担体,并尽量填充均匀,是减少涡流扩散,提高柱效的有效途径。 (2) 分子扩散项 B/u:由于试样组分被载气带入色谱柱后,是以“塞子”的形式存在于柱的很小一段空间中,在“塞子”的前后 ( 纵向 ) 存在着浓差而形成浓度梯度,因此使运动着的分子产生纵向扩散。采用相对分子质量较大的载气 ( 如氮气 ) ,可使B项降低,扩散系数随柱温增高而增加,但反比于柱压。弯曲因子 r 为与填充物有关的因素。 (3) 传质项系数 Cu:C 包括气相传质阻力系数 Cg 和液相传质阻力系数C1 两项。所谓气相传质过程是指试样组分从气相移动到固定相表面的过程,在这一过程中试样组分将在两相间进行质量交换,即进行浓度分配。这种过程若进行缓慢,表示气相传质阻力大,就引起色谱峰扩张。对于填充柱:液相传质过程是指试样组分从固定相的气液界面移动到液相内部,并发生质量交换,达到分配平衡,然后以返回气液界面的传质过程。这也造成峰形的扩张。对于填充柱,气相传质项数值小,可以忽略 。 由上述讨论可见,范弟姆特方程式对于分离条件的选择具有指导意义。它可以说明,填充均匀程度、担体粒度、载气种类、载气流速、柱温、固定相液膜厚度等对柱效、峰扩张的影响。
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