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公差带中的误差概念具有随机的含义。

参考答案和解析
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考题 测量误差的含义为（ ）。A：测量结果-真值 B：系统误差+随机误差 C：测量装置的固有误差 D：测量结果-随机误差
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考题 确定公差带应考虑起（）、（）、（）及（）等4个因素。理想要素是具有几何意义、没有任何误差的要素，可分为（）与（）。
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考题 以下关于定位公差带的描述，错误的是（）A、定位公差带相对于基准具有确定的位置B、定位公差带具有综合控制被测要素位置、方向和形状的功能C、对被测要素给出定位公差后，不再给出定向公差和形状公差D、位置度公差带的位置由理论正确尺寸确定
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考题 试剂中含有微量被测组分所引起的误差属（）。A、公差B、随机误差C、系统误差D、绝对偏差
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考题 简述随机误差的概念？
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考题 对于径向全跳动公差，下列论述正确的有（）。A、属于形状公差。B、属于位置公差。C、属于跳动公差。D、与同轴度公差带形状相同。E、当径向全跳动误差不超差时，圆柱度误差肯定也不超差。
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考题 如果某加工过程中，误差服从正态分布，但是样本平均值与公差带中心不重合，可以判断该加工过程存在（）A、随机误差B、常值系统误差C、变值系统误差
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考题 某工序的加工尺寸为正态分布，但分布中心与公差带中点不重合，则可以认为（）A、无随机误差B、无常值系统误差C、变值系统误差很大D、同时存在常值系统误差和随机误差
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考题 被测实际形状相对于理想形状的变动量称为（）。A、形状公差B、形状误差C、位置公差D、公差带
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考题 试剂含有微量杂质所引起误差属（）A、公差B、随机误差C、系统误差D、绝对误差
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考题 下列有关随机误差的论述中不正确的是（）。A、随机误差具有随机性B、随机误差具有单向性C、随机误差在分析中无法避免
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考题 如果线性回归模型中随机误差项的方差不是（），则称随机误差项具有异方差性。
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考题 在容量分析中，由于存在副反应而产生的误差称为（）。A、公差B、系统误差C、随机误差D、相对误差
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考题 定向公差带可以综合控制被测要素的形状误差和位置误差。
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考题 配合公差带具有（）和（）两个特性。配合公差带的大小，由（）决定；配合公差带的位置由（）决定。
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考题 径向全跳动公差带与圆柱度公差带形状是相同的，所以两者控制误差的效果也是等效的。
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考题 简述随机误差和粗大误差的概念和区别。
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考题 加工误差分布规律呈正态分布，曲线中的误差分散中心与公差带中心不重合，二者的偏离值由（）误差引起。
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考题 在容量分析中，由于存在副反应而产生的误差称为（）.A、公差B、系统误差C、随机误差
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考题 p在形位公差中表示的含义是（）A、延伸公差带B、自由状态条件C、包容要求
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考题 形位公差带是限定形位误差变动的区域，它通常包括：公差带的大小、形状、方向和（）。A、区域B、空间C、定向D、位置
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考题 下列有关随机误差的论述中不正确的是（）A、随机误差具有随机性B、随机误差具有单向性C、随机误差在分析中是无法避免的D、随机误差是由一些不确定的偶然因素造成的
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考题 单选题下列关于测量误差、系统误差、随机误差关系的说法中，正确的是（ ）。A 系统误差一定比随机误差大B 随机误差一定比系统误差大C 从理想的概念上说，随机误差等于测量误差减系统误差D 系统误差可表示为测量误差和随机误差之和
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考题 填空题配合公差带具有（）和（）两个特性。配合公差带的大小，由（）决定；配合公差带的位置由（）决定。
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考题 单选题在容量分析中，由于存在副反应而产生的误差称为（）.A 公差B 系统误差C 随机误差
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考题 单选题在容量分析中，由于存在副反应而产生的误差称为（）。A 公差B 系统误差C 随机误差D 相对误差
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考题 填空题加工误差分布规律呈正态分布，曲线中的误差分散中心与公差带中心不重合，二者的偏离值由（）误差引起。
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考题 问答题简述系统误差、随机误差和粗大误差的含义及减小误差的方法。
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