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两极间接上射频电源后，两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是（）

A．直流二级溅射

B．直接三级溅射

C．射频溅射

D．磁控溅射

参考答案和解析
射频溅射
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考题 单选题X线产生中，电子从阴极射向阳极所获的能量，由下列哪个因素决定（　）A X线管灯丝加热电压B 管电流C 靶物质的原子序数D 两极间的管电压E 阴极灯丝的焦点大小
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考题 单选题Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）A 靶材的原子序数B 管电压C .管电流D 灯丝电流
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考题 单选题X线产生中，电子从阴极射向阳极所获的能量，决定于下面的哪个因素（）A X线管灯丝加热电压B 两极间的管电压C 靶物质的原子序数D 管电流E 阴极灯丝的焦点大小
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考题 单选题X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于（）A 靶材的原子序数B 管电压C 管电流D 灯丝电压
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