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金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。

A对

B错

参考答案

参考解析
略
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考题 反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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考题 反渗透设备膜表面结金属氧化物时，一般用氨基磺酸进行清洗。A对B错
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考题 反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。A对B错
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考题 当反渗透设备进水中的微粒和胶体会对膜构成污染，可采用在进水添加化学阻垢剂的方法预防。A对B错
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考题 生物污染、有机物污染通常发生在反渗透设备的第一段膜元件内。A对B错
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考题 反渗透膜元件的生物污染，将会严重影响反渗透系统的性能，出现反渗透组件间的进出口压差（），导致膜元件产水量（），有时产水侧会出现（），导致（）。
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考题 提高反渗透膜元件抗污染能力的方法有哪些？
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考题 当反渗透设备进水中的微粒和胶体会对膜构成污染，可采用在进水添加化学阻垢剂的方法预防。
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考题 反渗透膜发生氧化损害时，通常位于（）。A、前端膜元件B、中段膜元件C、后端膜元件D、所以膜元件
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考题 反渗透膜的污染有（） A、膜表面的结垢B、金属氧化物的污染、污堵C、胶体污染D、微生物的污染
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考题 反渗透膜发生氧化损害时，通常位于末端膜元件。
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考题 受到微生物污染反渗透膜元件，易用化学清洗去除。
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考题 反渗透设备膜表面易生成的沉积物是（）A、碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B、氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等C、碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D、金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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考题 金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。
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考题 反渗透设备如果有背压，其后果是（）A、膜元件黏结线破裂而导致膜元件报废B、回收率降低C、膜表面沉积物生成速度加快D、浓水排放困难
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考题 生物污染、有机物污染通常发生在反渗透设备的第一段膜元件内。
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考题 反渗透设备膜表面结金属氧化物时，一般用氨基磺酸进行清洗。
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考题 反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。
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考题 反渗透给水中的胶体和悬浮物污染，导致对膜元件的危害是（）。A、产品水流量降低B、产品水流量提高C、脱盐率提高D、运行压差减小
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考题 判断题金属氧化物沉积、胶体污染通常发生在反渗透设备的第二段膜元件内。A 对B 错
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考题 判断题反渗透设备膜表面易生成碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等沉积物。A 对B 错
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考题 判断题生物污染、有机物污染通常发生在反渗透设备的第一段膜元件内。A 对B 错
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考题 单选题反渗透系统设置停机自动冲洗的作用是（）。A 防止高压水直接冲击膜元件和“水锤”现象的发生B 防止反渗透设备正常停机或事故停机时产生背压C 用渗透水将给水/浓水冲洗排掉，防止污染物的沉积D 防止反渗透系统存水而发生管道冻裂事故
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考题 多选题反渗透装置第一段的污染物主要有以下几种（）。A胶体；B水垢；C金属氧化物；D微生物和有机物。
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考题 单选题反渗透设备膜表面易生成的沉积物是（）A 碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等B 氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等C 碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等D 金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等
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考题 判断题反渗透设备膜表面结金属氧化物时，一般用氨基磺酸进行清洗。A 对B 错
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考题 单选题反渗透设备如果有背压，其后果是（）A 膜元件黏结线破裂而导致膜元件报废B 回收率降低C 膜表面沉积物生成速度加快D 浓水排放困难
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