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可以享有布图设计专有权的外国人，是下列中哪些？（）
- A、首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人
- B、其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人
- C、其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人
- D、首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标
参考答案
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考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A.布图设计专有权的取得方式是登记B.布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C.对布图设计专有权可以适用强制许可D.对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E.布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
考题
在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A.10年，自布图设计创作完成之日起计算B.15年，自布图设计登记申请之日起计算C.15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D.10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C.外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D.中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计登记申请之日起计算，D、布图设计专有权的保护期为15年，自布图设计创作完成之日起计算
考题
以下符合受保护的布图设计专有权的保护条件的有（ ）
A.布图设计自创完成之日起15年内。
B.未经布图设计权利人许可复制独创性部分。
C.未经 布图设计权利人许可以商业目的限售布图设计。
D.自布图设计登记申请日起算10年内。
考题
根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、对受保护的布图设计的全部进行复制B、对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C、将受保护的布图设计投入商业利用D、将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A、将受保护的布图设计投入商业利用B、将含有受保护布图设计的集成电路以及含有该集成电路的物品投入商业利用C、对受保护的布图设计的全部进行复制D、对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制
考题
根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A、为个人目的而复制受保护的布图设计B、为研究目的而复制受保护的布图设计C、在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D、对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列表述中不正确的表述是：（）A、外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权B、外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。C、外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。D、中国自然人、法人或者其他组织在境外创作的布图设计，可以依照本条例享有布图设计专有权。
考题
在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）.A、10年，自布图设计创作完成之日起计算B、15年，自布图设计登记申请之日起计算C、15年，自布图设计首次投入商业利用之日起计算D、10年，自布图设计登记申请之日或在世界上任何地方首次投入商业利用之日起计算
考题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列表述正确的有（）A、布图设计专有权的取得方式是登记B、布图设计专有权的保护期为10年，自授权公告之日起算C、对布图设计专有权可以适用强制许可D、对受保护的布图设计进行反向工程不构成侵权E、布图设计专有权的转让自书面合同签订之日起生效
考题
关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A、该布图设计必须由个人对立创造B、该布图设计必须投入商业实施C、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D、受保护的布图设计必须办理登记手续
考题
单选题根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。A
甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计B
乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制C
丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用D
丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，下列哪些行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬？（）A为个人目的而复制受保护的布图设计B为研究目的而复制受保护的布图设计C在评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计D对自己独立创作的与他人相同的布图设计投入商业利用
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人享有下列哪些专有权？（）A对受保护的布图设计的全部进行复制B对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制C将受保护的布图设计投入商业利用D将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用
考题
多选题根据集成电路布图设计保护条例及相关规定，集成电路布图设计权利人甲公司可以要求行为人停止下列哪些未经其许可的行为？（）A某大学教授赵某为教学目的而复制甲公司受保护的布图设计B乙公司将自己独立创作的与甲公司受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用C丙公司为商业目的复制甲公司受保护的布图设计中具有独创性的部分D丁公司为商业目的销售含有甲公司受保护的布图设计的集成电路
考题
单选题关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（）A
该布图设计必须由个人对立创造B
该布图设计必须投入商业实施C
受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中D
受保护的布图设计必须办理登记手续
考题
多选题布图设计权产生的形式条件包括（）。A布图设计必须投入商业实施B布图设计必须具有新颖性C布图设计必须固化到集成电路芯片中D必须办理有关登记手续
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