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（）对油脂、水溶性污垢具有良好的清洗能力，且配制简单，稳定耐用，无毒，不易燃使用安全。
- A、汽油
- B、煤油
- C、柴油
- D、化学清洗液
参考答案
更多 “（）对油脂、水溶性污垢具有良好的清洗能力，且配制简单，稳定耐用，无毒，不易燃使用安全。A、汽油B、煤油C、柴油D、化学清洗液” 相关考题
考题
下列关于软膏剂基质的叙述，错误的是( )。A.油脂性基质对皮肤有软化保护作用，且易清洗B.水溶性基质释放药物较快C.水溶性基质可用于有多量渗出液的创面D. O/W型乳剂型基质需加入保湿剂
考题
关于CT机内X射线探测器必备性能，错误的叙述是()。A.体积大，灵敏度高B.对x射线能量具有良好的吸收能力C.对较大范围的x射线强度具有良好的反应能力及均匀性D.残光少且恢复常态的时间快E.工作性能稳定，有良好的再现性且使用寿命长
考题
基质促进皮肤水合作用的能力为A．油脂性基质＞O/W型基质＞W/O型基质＞水溶性基质B．油脂性基质＞W/O型基质＞O/W型基质＞水溶性基质C．水溶性基质＞W/O型基质＞O/W型基质＞油脂性基质D．水溶性基质＞W/O型基质＞O/W型基质＞油脂性基质E．水溶性基质＞油脂性基质＞W/O型基质＞O/W型基质
考题
清洗设备及装配件表面的除锈油脂，宜采用的清洗方法有（ ）。A：对中小型形状复杂的装配件采用多步清洗法或浸、涮结合法
B：对形状复杂、污垢严重、清洗要求高的装配件采用浸-喷联合清洗
C：对装配件的最后清洗，采用超声波装置，用溶剂油清洗
D：对精密零件、滚动轴承等采用清洗剂进行喷洗
考题
基质促进皮肤水合作用的能力为A、油脂性基质＞W／O型基质＞O／W型基质＞水溶性基质
B、水溶性基质＞W／O型基质＞O／W型基质＞油脂性基质
C、水溶性基质＞W／O型基质＞O／W型基质＞油脂性基质
D、水溶性基质＞油脂性基质＞W／O型基质＞O／W型基质
E、油脂性基质＞O／W型基质＞W／O型基质＞水溶性基质
考题
(2014年)清洗设备及装配件表面的除锈油脂，宜采用的清洗方法有()。A.对中小型形状复杂的装配件采用多步清洗法或浸、涮结合法
B.对形状复杂、污垢严重、清洗要求高的装配件采用浸 — 喷联合清洗
C.对装配件的最后清洗，采用超声波装置，用溶剂油清洗
D.对精密零件、滚动轴承等采用清洗剂进行喷洗
考题
清洗设备及装配件表面的除锈油脂，宜采用的方法有（ ）A.对中小型形状复杂的装配件采用多步清洗法或浸、涮结合法
B.对形状复杂、污垢严重、清洗要求高的装配件采用浸-喷联合清洗
C.对装配件的最后清洗，采用超声波装置，用溶剂油清洗
D.对精密零件、滚动轴承等采用清洗剂进行喷洗
考题
对探测器性能要求，错误的论述是：（）A、对X射线能量具有良好的吸收能力B、对较大范围的射线强度具有良好的反应能力及均匀性C、工作性能稳定，有良好的再现性D、残光少，且恢复常态的时间慢E、体积小，灵敏度高，少量射线照射，能获得足够大信息强度
考题
对探测器性能的叙述，错误的是（）A、对X线射能量具有良好的吸收能力B、对较大范围的射线强度具有良好的反应能力及均匀性C、工作性能稳定，有良好的再现性D、残光少，且恢复常态的时间慢E、体积小，灵敏度高，少量射线照射，能获得足够大信息强度
考题
单选题关于CT机内X射线探测器必备性能，错误的叙述是（）A
体积大，灵敏度高B
对X射线能量具有良好的吸收能力C
对较大范围的X射线强度具有良好的反应能力及均匀性D
残光少且恢复常态的时间快E
工作性能稳定，有良好的再现性且使用寿命长
考题
多选题关于探测器性能的要求，叙述正确的是（）。A体积小，灵敏度高B残光少，且恢复常态的时间慢C对较大范围的射线强度具有良好的反应能力及均匀性D工作性能稳定，有良好的再现性E对X射线能量具有良好的转换能力
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