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温度低有利于Si的氧化。
参考答案
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考题
常用的硬钎剂有()、()(活性温度高,均在800℃以上,只能配合铜基钎料使用,去氧化物能力差,不能去除Cr、Si、Al、Ti等的氧化物)、KBF4(氟硼酸钾,熔点低,去氧化能力强,是熔点低于750℃银基钎料的适宜钎剂)等。
考题
铁水内元素氧化的顺序在1400℃以下时为：Al、Si、Mn、Cr、P、C、Fe，而在1530℃～1600℃之间其氧化的顺序变为（），因此铁水内元素在转炉内的与氧的亲合力随温度在变化。A、Al、C、Si、Mn、P、Cr、FeB、Al、C、Si、Mn、Cr、P、FeC、Al、Cr、C、Mn、Si、P、FeD、Al、C、Si、Cr、Mn、P、Fe
考题
铁水内元素氧化的顺序在1400℃以下时为：Al、Si、Mn、Cr、P、C．Fe，而在1530℃～1600℃之间其氧化的顺序变为（）。因此铁水内元素在转炉内的与氧的亲合力随温度在变化。A、Al、C．Si、Mn、P、Cr、FeB、Al、C．Si、Mn、Cr、P、FeC、Al、Cr、C．Mn、Si、P、FeD、D．Al、Si、Cr、Mn、P、Fe
考题
加热器冷却水管入口管端侵蚀的化学反应会产生磁性氧化铁膜，其反应过程在（）下，有利于磁性氧化铁的形成。A、低含氧量的中性和碱性溶液中以及在150℃的温度B、低含氧量的中性和碱性溶液中以及在180℃的温度C、低含氧量的中性和碱性溶液中以及230℃以上的温度D、酸性溶液中以及在180℃的温度
考题
填空题由于O2在SiO2中的扩散率远（）于Si 在SiO2中的扩散率，所以氧化反应是由O2穿过SiO2层，在（）界面与Si原子反应。相同温度下，湿氧氧化速率（）于干氧氧化速率，是因为在SiO2中，H2O比O2有更（）的扩散率和溶解度。由于N2和Si在Si3N4中的扩散率都很（），所以很难在Si衬底上热生长Si3N4。通常在Si衬底上用（）法沉积Si3N4薄膜。
考题
单选题有利于香蕉束顶病发生流行的条件是（）A
温度低，湿度高B
温度高，湿度低C
温度低，湿度低D
温度高，湿度高
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