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目前常用刀具涂层方法有()。

  • A、化学气相沉积法
  • B、物理气相沉积法
  • C、盐浴浸镀法
  • D、等离子喷涂

参考答案

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考题 较为受青睐的量子点的制备方法是A、蒸汽冷凝法B、低温等离子法C、气相沉积D、水相合成法E、有机相合成法

考题 制造陶瓷涂层发动机目前最佳的涂层方法是()A、等离子喷涂法B、PVD法C、CVD法D、溶胶-凝胶工艺

考题 高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同,有()两种。A、高温烧结和高温高压烧结B、化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)C、热压法(HP)和热等静压法(HIP)D、电镀法和电铸法

考题 化学气相沉积技术主要用于()类刀具的表面涂层。

考题 刀具表面涂层技术是一种优质的(),它是在普通高速钢和硬质合金刀片表面,采用化学气相沉积或者物理气相沉积的工艺方法,覆盖一层高硬度难融金属化合物。

考题 目前实验室和工业上经常采用的制备超细粉体材料的方法是()A、气相法B、固相法C、液相法D、化学气相沉积法

考题 生产超细颗粒的方法中PVD和CVD法分别指()A、物理气相沉积法;B、化学气相沉积法;C、气相法;D、固相法

考题 利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)

考题 简述化学气相沉积法的五个基本步骤

考题 在光纤的制备方法中,VAD法是指()。A、外部化学气相沉积法B、轴向化学气相沉积法C、改进的化学气相沉积法D、等离子化学气相沉积法

考题 利用化学气相沉积法和物理气相沉积法均可以获得非晶硅膜。

考题 目前正在广泛研究的有化学气相沉积法、()、固相结晶、等。

考题 下面不是制造非晶硅太阳电池常用的方法是()。A、辉光放电法B、反应溅射法C、化学气相沉积法D、电镀法

考题 化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?

考题 物理气相沉积技术可作为最终处理工艺用于()刀具的涂层。

考题 化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了()。

考题 填空题化学气相沉积与物理气相沉积最根本的区别是在沉积前是否发生了()。

考题 问答题化学气相沉积与物理气相沉积有什么区别?

考题 单选题制备石英光纤有多种方法,其中等离子体化学气相沉积法的缩写是()A PCVDB CVDC MCVDD AVD

考题 单选题“PECVD”中文表述是()。A 脉冲激光沉积B 金属有机化学气相沉积C 溅射D 等离子体增强化学气相沉积

考题 单选题集成电路生产中,金属薄膜的沉积通常采用()A 溅射物理气相沉积B 蒸发物理气相沉积C 等离子增强化学气相沉积D 低压化学气相沉积

考题 单选题在大马士革铜工艺中,铜薄膜通常采用()方式获得。A 物理气相沉积B 化学气相沉积C 电化学镀D 热氧化

考题 单选题制造陶瓷涂层发动机目前最佳的涂层方法是()A 等离子喷涂法B PVD法C CVD法D 溶胶-凝胶工艺

考题 填空题较为成熟的()的制备方法主要有电弧法、热蒸发法、燃烧法和化学气相沉积法等。

考题 填空题气相沉积法分为()和化学沉积法;化学沉积法按反应的能源可分为热能化学气相沉积、()。

考题 问答题化学气相沉积法的原理是什么?

考题 单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A 物理气相沉积(PVD)B 物理气相沉积(CVD)C 化学气相沉积(VCD)D 化学气相沉积(CVD)