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被测平面出现弯曲的干涉条纹时，当切线与三条干涉条纹相交，其平面度偏差为（）。

  • A、0.29微米
  • B、0.58微米
  • C、0.72微米
  • D、0.87微米

参考答案

更多 “被测平面出现弯曲的干涉条纹时，当切线与三条干涉条纹相交，其平面度偏差为（）。A、0.29微米B、0.58微米C、0.72微米D、0.87微米” 相关考题
考题 利用光学瓦斯检定器测定瓦斯时当测点空气湿度过大,水分吸收管不能将水分全部吸收时,会造成()结果。 A.无干涉条纹B.干涉条纹不清C.黑基线弯曲D.无读数
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考题 用平面平晶检查平面度时,若出现3条直的,互相平行而等间隔的干涉条纹,则其平面度为()。 A、0.9μmB、0C、1.8μm
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考题 用平面平晶检查平面度时，若出现3条直的，互相平行而等间隔干涉条纹，则其平面度为（）。A、0.9μmB、0C、1.8μm
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考题 用平晶以光波干涉法检定量具工作面的平面度时，出现干涉条纹或干涉环，其干涉原理是（）。A、球面干涉B、等倾干涉C、等厚干涉
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考题 用平面平晶检查平面度时，如出现三条直的且相互平行而等间隔的干涉条纹时，其平面度是（）。A、0.9μmB、0C、0.3μm
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考题 单色光垂直入射到两块平板玻璃板所形成的空气劈尖上，当劈尖角度逐渐增大时，干涉条纹如何变化（）A、干涉条纹向棱边密集B、干涉条纹背向棱边密集C、干涉条纹向棱边稀疏D、干涉条纹内向棱边稀疏
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考题 测量平面度误差时，常将平面平晶工作面贴在被测表面上，并稍加压力，就会有干涉条纹出现。干涉条纹越多，则平面度误差（）。
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考题 干涉光带为（），表明被测件的平面度非常高，接近于理想平面，平面度偏差小于0.029微米。A、直带B、同心圆干涉带C、椭圆形干涉带D、鞍形干涉带
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考题 用平晶检测平面度，有时看不见干涉条纹，这可能是由于（）。A、被测表面不光洁B、被测表面平面度很差C、被测表面有毛刺D、非金属材料表面折光不好
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考题 通常鞍形干涉条纹表示平面度为（）条光带。A、一条B、两条C、三条D、六条
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考题 在杨氏双缝干涉实验中，如果光源缝慢慢张开，则（）A、条纹间距减小B、干涉条纹移动C、可见度下降D、干涉条纹没有变化
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考题 双缝干涉实验中，若增大其中一缝的宽度，干涉条纹将发生变化（）A、干涉条纹位置改变B、干涉条纹间距发生改变C、干涉条纹可见度改变D、干涉条纹形状发生改变
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考题 外径千分尺平面度用二级平晶按（）检定A、光波法B、光干涉法C、光条纹法D、干涉条纹法
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考题 用平面平晶的技术光波干涉法检定一量具工作面的平面度时，出现的干涉条纹或干涉环，其干涉原理是（）。A、球面干涉B、等倾干涉C、等厚干涉
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考题 检定千分尺测量面平面度时，初学人员用平面平晶往往在测量面上产生不了干涉条纹，主要原因是什么？
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考题 用等厚干涉法检定平品平面度时，在整个视场中干涉条纹的条数以调整到如下情况为最宜（）。A、干涉条纹尽量少B、2条或4条C、3条或5条
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考题 当光的入射角一定时，光程差仅与薄膜厚度有关的干涉现象叫等厚干涉。这种干涉条纹叫做等厚干涉条纹。劈尖干涉和牛顿环干涉均属此类。
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考题 单选题用等厚干涉法检定平品平面度时，在整个视场中干涉条纹的条数以调整到如下情况为最宜（）。A 干涉条纹尽量少B 2条或4条C 3条或5条
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考题 单选题用平面平晶的技术光波干涉法检定一量具工作面的平面度时，出现的干涉条纹或干涉环，其干涉原理是（）。A 球面干涉B 等倾干涉C 等厚干涉
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考题 单选题双缝干涉实验中，若增大其中一缝的宽度，干涉条纹将发生变化（）A 干涉条纹位置改变B 干涉条纹间距发生改变C 干涉条纹可见度改变D 干涉条纹形状发生改变
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考题 单选题用平面平晶检查平面度时，如出现三条直的且相互平行而等间隔的干涉条纹时，其平面度是（）。A 0.9μmB 0C 0.3μm
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考题 单选题迈克尔孙干涉仪的两块平面反射镜互相垂直时，从该干涉仪中观察到的干涉图样是一组同心圆圈，他们是（）A 内圈的干涉级数高于外圈的等厚干涉条纹B 内圈的干涉级数低于外圈的等厚干涉条纹C 内圈的干涉级数高于外圈的等倾干涉条纹D 内圈的干涉级数低于外圈的等倾干涉条纹
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考题 单选题用平晶以光波干涉法检定量具工作面的平面度时，出现干涉条纹或干涉环，其干涉原理是（）。A 球面干涉B 等倾干涉C 等厚干涉
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考题 单选题在迈克尔孙的等倾干涉实验中，可以观察到环形干涉条纹，干涉仪的平面反射镜M2由分光板所成的像为M′2，当M′2与干涉仪的另一块平面反射镜M1之间的距离变小时，则（）A 条纹一个一个地从中间冒出，条纹间距变小B 条纹一个一个地向中间陷入，条纹间距变大C 条纹不变，但条纹的可见度下降D 条纹不变，但条纹的可见度提高
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考题 单选题用平面平晶检查平面度时，若出现3条直的，互相平行而等间隔干涉条纹，则其平面度为（）。A 0.9μmB 0C 1.8μm
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考题 单选题外径千分尺平面度用二级平晶按（）检定A 光波法B 光干涉法C 光条纹法D 干涉条纹法
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