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问答题
配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件?
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考题
在EDTA滴定中,提高选择性的方法有()。
A、控制酸度,降低干扰离子与EDTA配离子的稳定性B、提高酸度,降低干扰离子的浓度C、配位掩蔽法降低干扰离子的浓度D、氧化还原掩蔽法降低干扰离子的浓度E、沉淀掩蔽法降低干扰离子的浓度
考题
在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力
考题
控制一定的PH值,用EDTP滴定Zn2+、Mn2+、Mg2+、Cu2+混合试液中的Cu2+这种提高配位滴定选择性的方法属于()。A、利用选择性的解蔽剂B、配位掩蔽法C、氧化还原掩蔽法D、其他滴定剂的应用
考题
配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断
考题
多选题在配位滴定中,消除干扰离子的方法有()。A掩蔽法B预先分离法C改用其它滴定剂法D控制溶液酸度法
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