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某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）。
- A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理
- B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
- C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
- D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接
- E、取印模重新制作支架
参考答案
更多 “某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）。A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架” 相关考题
考题
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钴铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是( )。A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是 ( )A.将后腭杆切割，调整正确位置后焊接
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲，不做任何处理
D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
E.取印模重新制作支架
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A、不做处理，让患者将义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A
腭杆组织面加自凝树脂重衬B
不做处理，让患者将义齿戴走C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题初戴上颌局部义齿时，发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm，处理方法是（ ）。A
不必处理B
腭杆组织面加自凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
去除腭杆，让患者戴走E
取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm.处理方法是（）A
不做处理，让患者将义齿戴走B
腭杆组织面加自凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（ ）。A
取下腭杆B
腭杆组织面缓冲C
腭杆组织面加自凝树脂重衬D
不做任何处理E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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