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某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是 ( )
A.将后腭杆切割，调整正确位置后焊接
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲，不做任何处理
D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
E.取印模重新制作支架
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲，不做任何处理
D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合
E.取印模重新制作支架
参考答案
参考解析
解析：
更多 “某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是 ( )A.将后腭杆切割，调整正确位置后焊接 B.腭杆组织面加自凝树脂重衬 C.腭杆组织面缓冲，不做任何处理 D.用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合 E.取印模重新制作支架” 相关考题
考题
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、取下腭杆B、腭杆组织面缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是A、不必处理B、腭杆组织面加白凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、去腭杆，让患者戴走E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钴铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭黏膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
考题
一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A．不必处理B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．去除腭杆，让患者将义齿戴走E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是A．不做处理，让患者将义齿戴走B．腭杆组织面加自凝树脂重衬C．腭杆组织面缓冲D．取下腭杆E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
某患者，男，54岁，双侧上颌第二前磨牙、第一磨牙缺失，设计钻铬合金铸造支架，双侧后腭杆连接，义齿初戴时，发现后腭杆离开组织面2mm，最佳处理方法是（）。A、腭杆组织面缓冲，不做任何处理B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、用技工钳调整后腭杆与腭粘膜贴合D、将后腭杆切割，调整正确位置后焊接E、取印模重新制作支架
考题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是（）A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A、不做处理，让患者把义齿戴走B、腭杆组织面加自凝树脂重衬C、腭杆组织面缓冲D、取下腭杆E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题初戴上颌局部义齿时，发现弯制的后腭杆离开腭粘膜2mm，处理方法是（ ）。A
不必处理B
腭杆组织面加自凝树脂重衬C
腭杆组织面缓冲D
去除腭杆，让患者戴走E
取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法为（ ）。A
腭杆组织面加自凝树脂重衬B
不做处理，让患者将义齿戴走C
腭杆组织面缓冲D
取下腭杆E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
考题
单选题患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）A
取下腭杆B
腭杆组织面缓冲C
腭杆组织面加自凝树脂重衬D
不做任何处理E
取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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