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单选题
平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。
A

防止不应曝光的部位曝光

B

保证印版与底片密合

C

减少曝光时间

D

防止印版药膜发生化学反应

参考答案

参考解析
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考题 （）不是晒版时造成之错误A、图纹反晒B、曝光时间不对C、版与印纹移位D、底片精细度
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考题 明室覆片机是（）A、晒版机械B、冲洗底片机械C、翻制底片机D、间接版晒版机
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考题 （）不是晒版时版与底片移位，或重复曝光所产生之不良现象。A、版纹不清B、版纹冲不掉C、双重影像D、锯齿状
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考题 箱型晒版机若灯源在下方则（）A、底片在版面下方B、底片在版面上方C、底片药膜面朝下D、印版刮印面朝下
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考题 晒版前发现版面小部份有瑕疵时应（）A、用剥膜膏修整B、用补版胶修补C、将晒版底片印纹躲开瑕疵D、可以不加理会
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考题 布花版晒版定位感光时应（）A、每色版及底片皆定位B、底片固定每色版上下不定位C、每色版固定而每色底片不定位D、视情况
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考题 PS版晒版的基本工艺流程是什么？
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考题 平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。A、防止不应曝光的部位曝光B、保证印版与底片密合C、减少曝光时间D、防止印版药膜发生化学反应
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考题 平版制版的主要过程：网目正片、晒版、显影、腐蚀、（）、PS版、打样。A、定影B、冲洗C、图布感光液D、除膜
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考题 问答题PS版晒版的基本工艺流程是什么？
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考题 单选题丝网版的曝光制版（）进行。A 必须在专用晒版机上B 必须在平版晒版机上C 可在所有晒版机上D 也可在平版晒版机上
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