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填空题
集成电路的特征尺寸有时也称线宽,通常是指集成电路中半导体器件的()。

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考题 集成电路可分为膜集成电路,半导体集成电路或混合集成电路。() 此题为判断题(对,错)。

考题 下列不属于根据制造工艺的不同对集成电路分类的是()。 A、膜集成电路B、半导体集成电路C、混合集成电路D、模拟集成电路

考题 下列关于集成电路的叙述错误的是()。 A、将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上就构成集成电路。B、现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓。C、集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路。D、集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路。

考题 智能功率集成电路指的是该电路至少把逻辑控制电路和功率半导体管集成在同一芯片上,通常是指输出功率大于1w的集成电路。() 此题为判断题(对,错)。

考题 现代集成电路使用的半导体材料通常是( )。A.硅B.碳C.铜D.铝

考题 第一台计算机采用的硬件逻辑器件是()。A半导体器件B集成电路C电子管D光电管

考题 有一块半导体集成电路中的器件数在100-1000之间,则该电路为()集成电路。A、小规模B、中规模C、大规模D、极大规模

考题 在下列有关集成电路的叙述中,错误的是()。A、集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的B、大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象C、现代集成电路使用的半导体材料主要是硅D、集成电路技术发展很快,至今已达到线宽0.001um的工艺水平

考题 按制造工艺集成电路分为()。A、半导体集成电路B、TTL集成电路C、厚膜集成电路D、薄膜集成电路E、CMOS集成电路

考题 集成电路按照功能可分为()。A、模拟集成电路B、数字集成电路C、半导体集成电路D、双极型集成电路

考题 集成电路按照制造工艺可分为()。A、半导体集成电路B、薄膜集成电路C、数字集成电路D、厚膜集成电路

考题 微电子技术的核心是()。A、电子元器件技术B、集成电路技术C、晶体管技术D、半导体技术

考题 集成度与线宽有对应关系,即集成度越高,线宽越小,所以,线宽也常用来表示集成电路制度技术水平的高低。

考题 对于模拟集成电路,在一块芯片上包含了100-1000个元器件的集成电路称()。A、小规模集成电路B、中规模集成电路C、大规模集成电路D、超大规模集成电路

考题 下面关于集成电路的叙述中错误的是()A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路使用的都是半导体硅材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切的关系

考题 下面关于集成电路(IC)的叙述中,正确的是()。A、集成电路是上世纪50年代出现的B、集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C、集成电路使用的都是半导体硅(Si)材料D、集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系

考题 下列关于集成电路的叙述中错误的是()A、集成电路是将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上B、现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓C、集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路D、集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路

考题 下列电路属于单极型器件集成的应是().A、TTL集成电路B、HTL集成电路C、MOS集成电路

考题 问答题按照器件类型分,半导体集成电路分为哪几类?

考题 单选题下面的叙述中错误的是()A 现代信息技术的主要特征是采用电子技术进行信息的收集、传递、加工、存储、显示和控制B 现代集成电路使用的半导体材料主要是硅C 集成电路的工作速度主要取决于组成逻辑门电路的晶体管数量D 当集成电路的基本线宽小到纳米级时,将出现一些新的现象和效应

考题 单选题第一台计算机采用的硬件逻辑器件是()。A 半导体器件B 集成电路C 电子管D 光电管

考题 填空题集成电路的特征尺寸是衡量集成电路加工工艺水平和()的主要指标。

考题 单选题下列关于集成电路的叙述中错误的是()A 集成电路是将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上B 现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓C 集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路D 集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路

考题 单选题在下列有关集成电路的叙述中,错误的是()。A 集成电路的规模是根据其所包含的电子元件数目进行划分的B 大规模集成电路一般以功能部件和子系统为集成对象C 现代集成电路使用的半导体材料主要是硅D 集成电路技术发展很快,至今已达到线宽0.001um的工艺水平

考题 单选题下面关于集成电路的叙述中错误的是()A 集成电路是上世纪50年代出现的B 集成电路的许多制造工序必须在恒温、恒湿、超洁净的无尘厂房内完成C 集成电路使用的都是半导体硅材料D 集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切的关系

考题 填空题半导体集成电路是采用半导体工艺技术,在硅基片上制作包括电阻、电容、()、晶体管等元器件并具有某种电路功能的集成电路。

考题 问答题集成电路中,有源器件是指哪些种类的晶体管?