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在OptiXBWS320G系统中D32使用介质薄膜型器件做成。
此题为判断题(对,错)。
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考题
二氧化硅薄膜在半导体器件生产上的应用有() ⑴ 对杂质的掩蔽作用 ⑵ 对器件表面的保护和钝化作用 ⑶ 用于器件的电绝缘和电隔离 ⑷ 作为电容器的介质材料 ⑸ 作为MOS场效应晶体管的绝缘栅材料A.⑴⑵B.⑴⑵⑶C.⑴⑵⑷⑸D.⑴⑵⑶⑷⑸
考题
11、目前在直流电动机调速系统中还有采用半控型器件,其他领域几乎全部采用全控器件。
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