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材料蒸发时,充氧的主要目的有哪些?()
- A、补充材料失去的氧原子,使材料氧化更充分,降低膜层吸收
- B、使每次镀膜时,真空室内的真空状态相接近
- C、使蒸发更稳定
- D、使控制更精确
参考答案
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考题
为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞,故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足()条件A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。
考题
手动预熔材料时,应注意下列哪些事项?()A、真空室内达到一定的真空度,开始加电流预熔材料B、光斑不能打到坩埚边上,更不能打到坩埚外边C、预熔时的最高电流一定要高于蒸发时的电流D、不同材料不同的预熔电流
考题
单选题X射线管需要高真空的原因是()。A
防止电极材料氧化B
使电子束不电离而容易通过C
使电极之间绝缘降低D
以上都对
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