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THE催化剂制备过程中,滗析阶段温度控制范围是多少?
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考题
某发明专利申请要求保护一种光催化剂的制备方法,其中采用A工艺,并对干燥温度进行了限定。某现有技术记载了采用A工艺制备同种光催化剂的方法,其中干燥温度为50℃~100℃。相对于该现有技术,该发明专利申请的哪个权利要求不具备新颖性?()A、一种光催化剂的制备方法,采用A工艺,其特征在于干燥温度为40℃~90℃B、一种光催化剂的制备方法,采用A工艺,其特征在于干燥温度为58℃C、一种光催化剂的制备方法,采用A工艺,其特征在于干燥温度为60℃~75℃D、一种光催化剂的制备方法,采用A工艺,其特征在于干燥温度为40℃~45℃
考题
SiHCl3还原法制备晶体硅,在生产过程中不需要控制()。A、反应温度在280℃~300℃之间B、硅粉与HCl在进入反应炉前要充分干燥C、晶体生长速度D、合成时加入少量的催化剂,可降低温度
考题
问答题甲醇精馏过程中控制塔顶温度是多少?
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