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在烧结过程中,主要是氧化气氛,局部是__________。


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考题 烧结过程中总体时氧化性气氛,局部时( )气氛。A.还原性B.氧化性C.中性

考题 烧结过程中宏观来讲是( )气氛。A.氧化B.还原C.中性

考题 在烧结过程中总体是氧化性气氛,局部是__________。

考题 在烧结过程中,生产以铁酸钙为主要粘结相的烧结矿必须具备三个必要条件,它们分别是__________、低温、氧化气氛。

考题 烧结过程中总体是氧气性气氛,局部是__________气氛。

考题 烧结普通砖有红砖和青砖,其中红砖的成因是( )。A.黏土原料中含有氧化铜的成分所致 B.普通砖在烧结过程中窑内呈还原气氛,原料中铁成分被还原为低价铁所致 C.普通砖在烧结过程中窑内呈氧化气氛,原料中铁成分被氧化为高价铁所致 D.黏土原料中含有氧化铝的成分所致

考题 TiO2-x是因为()而产生的A.反应物中O2-离子浓度太小。B.在还原性气氛中烧结,气氛中氧的分压很低。C.在氧化性气氛中烧结。D.在烧结中有杂质参加。

考题 BaTiO3陶瓷半导体化的方法有_______________。A.在缺氧气氛下烧结B.在富氧气氛下烧结C.进行施主离子掺杂D.进行受主离子掺杂

考题 17、所有的瓷坯在还原气氛中的烧结温度均比在氧化气氛中高。