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单选题
患者，女性，15岁，主诉：牙列不齐，检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为（ ）。
A
上下颌强支抗
B
上下颌中度支抗
C
上颌强支抗，下颌弱度支抗
D
上颌中度支抗，下颌弱支抗
E
上下颌弱支抗
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考题
女性，24岁。主诉：前牙排列不齐。口内检查：磨牙关系中性。覆盖3mm，覆0mm。上中切牙外翻，上牙列拥挤4mm，下牙列拥挤4.5mm。X线头影测量为：SNA80°，SNB76°，U1/SN105°，L1/MP 94°，SN/MP43°。软组织侧貌为直面型。上下唇突点至审美平面的距离分别为2mm和1.5mm。该患者最恰当的拔牙方案是A、4个第二双尖牙B、上颌第二，下颌第一双尖牙C、四个第一双尖牙D、四个第一恒磨牙E、上颌第一，下颌第二双尖牙该患者支抗设计的正确叙述是A、上下颌均为弱支抗B、上下颌均为中度支抗C、上下颌均为强支抗D、上颌强支抗，下颌弱支抗E、上颌强支抗，下颌中度支抗从患者的垂直骨面型考虑，以下不正确的叙述是A、为维持协调的鼻唇颏关系，该病例治疗结束时下切牙宜唇倾一些B、进一步升高后牙对该患者是不利的C、该患者拔牙间隙关闭比较容易D、下颌平面角进一步增高对该患者是不利的E、该患者不宜使用推磨牙向远中的方法如果该患者的SN/MP为24°，OB为Ⅱ度，则以下不正确的叙述是A、为维持协调的鼻唇颏关系，该病例治疗结束时下切牙宜唇倾一些B、该患者若拔后牙矫治则可能出现拔牙间隙关闭困难C、适当升高后牙有利于该患者覆的控制D、可选择邻面去釉解除拥挤E、临床上多采用种植体支抗压低前牙
考题
患者女，11岁，面中1/3略突，面下1/3高度正常，上下前牙略唇倾，磨牙中性关系，Ⅱ度深覆，覆盖3mm，上颌拥挤12mm，下颌拥挤10m。该患者的拥挤程度为A、0度拥挤B、Ⅰ度拥挤C、Ⅱ度拥D、Ⅲ度拥挤E、以上都不对此患者的矫治设计最可能的是A、不拔牙B、拔除上颌第一双尖牙和下颌第一双尖牙C、拔除上颌第一双尖牙和下颌第二双尖牙D、拔除上颌第二双尖牙和下颌第二双尖牙E、拔除上颌第二双尖牙和下颌第二双尖牙对此患者的诊断可能为A、安格尔Ⅰ类错B、牙性安格尔Ⅱ类错C、骨性安格尔Ⅱ类错D、安格尔Ⅱ类2分类错E、安格尔Ⅱ类错治疗中支抗设计是A、轻度支抗B、腭杠加强支抗C、Nance弓加强支抗D、口外弓加强支抗E、以上都不是
考题
患者女性，15岁，主诉牙列不齐。检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为A.上下颌强支抗
B.上下颌中度支抗
C.上颌强支抗，下颌弱度支抗
D.上颌中度支抗，下颌弱支抗
E.上下颌弱支抗
考题
患者女，11岁，面中1／3略突，面下1／3高度正常，上下前牙略唇倾，磨牙中性关系，Ⅱ度深覆，覆盖3mm，上颁拥挤12mm，下颌拥挤10mm治疗中支抗设计是
A.口外弓加强支抗
B.Nance弓加强支抗
C.腭杠加强支抗
D.轻度支抗
E.以上都不是
考题
女，16岁，恒牙列，磨牙中性关系，双侧后牙反，上颌牙列6mm拥挤，下颌牙列拥挤5mm，覆2mm，覆盖3mm，牙弓狭窄、面型较窄长。X线投影测量结果SNA82°、SNB80°、U1-SN105°、L1-MP91°、MP-SN38°。在矫治中该患者需要
A.上颌强支抗
B.下颌强支抗
C.上颌中度支抗
D.下颌中度支抗
E.磨牙的垂直向控制
考题
男，12岁，恒牙，磨牙远中尖对尖。上颌略前突，下颌略后缩，U1-SN107° L1-MP96°，ANB5°，上下牙弓Ⅱ度拥挤，前牙Ⅱ度深覆，采用拔牙矫正。该病人支抗设计为
A.上颌强支抗，下颌弱支抗
B.上颌强支抗，下颌中支抗
C.上颌中支抗，下颌强支抗
D.上颌弱支抗，下颌强支抗
E.上颌弱支抗，下颌中支抗
考题
患者女性，26岁，检查：恒牙列，第一磨牙呈中性关系，上牙列拥挤7mm，下牙列拥挤9mm，面部对称。X线头影测量：各测量值基本在正常范围内。该患者的支抗控制应为
A.弱支抗
B.中度支抗
C.强支抗
D.弱到中度支抗
E.中度到强支抗
考题
患者，女性，15岁，主诉牙列不齐。检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆牙合覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为（）A、上下颌强支抗B、上下颌中度支抗C、上颌强支抗，下颌弱度支抗D、上颌中度支抗，下颌弱支抗E、上下颌弱支抗
考题
患者，男性，12岁，主诉牙列不齐，嘴唇突。临床检查：恒牙列，右侧磨牙关系远中尖对尖，左侧磨牙完全远中，上下牙列轻度拥挤，前牙深覆深覆盖Ⅲ度，下中线左偏约2mm，有咬下唇习惯，正面观轻度开唇露齿，侧面观面型突，颏唇沟深。功能检查：下颌前伸后侧貌改善。X线检查：∠SNA80.5°，∠SNB73.2°，U1／SN105°，L1／MP92°，MP／SN32.5°。若拔除第一前磨牙进行治疗，则磨牙支抗类型为（）A、上下颌强支抗B、上下颌中度支抗C、上下颌弱支抗D、上颌强支抗，下颌中度支抗E、上颌中度支抗，下颌弱支抗
考题
患者，女，16岁，恒牙，磨牙中性关系，前牙覆覆盖正常，上下牙弓Ⅲ°度拥挤，尖牙唇向错位，骨骼型Ⅰ类，双颌略显前突，四个第三磨牙牙胚存在。对此患者，应采用何种增强支抗的方法（）。A、牙支抗B、颌内支抗C、颌间支抗D、Ⅱ类牵引E、在用颌内支抗的同时，加用口外唇弓来增强支抗
考题
患者男，21岁，下颌呈相对后退位，下颌角大，口唇闭合呈现口唇肌肉紧张。覆Ⅲ度，覆盖7mm，磨牙远中咬合关系，上颁拥挤4mm，ANB为8°，SNA为81°，下颌无拥挤，下前牙略唇倾，Spee曲线曲度3mm此患者的支抗要求是（）。A、轻度支抗B、中度支抗C、强支抗D、不要求支抗E、以下颌为支抗
考题
颌间支抗是指（）A、支抗牙与矫治牙在同一牙弓内，利用支抗牙作为支抗而使矫治牙移动B、以枕部、颈部、头顶等部作为支抗来矫治对颌牙齿，或是调整颌位关系C、以上颌（上牙弓）或下颌（下牙弓）作为支抗来矫治对颌牙齿，或是调整颌位关系D、利用种植体作为支抗来移动牙齿E、以上均不正确
考题
患者，女性，15岁，主诉：牙列不齐，检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为（）A、上下颌强支抗B、上下颌中度支抗C、上颌强支抗，下颌弱度支抗D、上颌中度支抗，下颌弱支抗E、上下颌弱支抗
考题
单选题颌间支抗指的是（ ）。A
支抗牙与矫治牙在同一牙弓内，利用支抗牙作为支抗而使矫治牙移动B
以枕部、颈部、头顶等部作为支抗来矫治对颌牙齿，或是调整颌位关系C
以上颌（上牙弓）或下颌（下牙弓）作为支抗来矫治对颌牙齿，或是调整颌位关系D
利用种植体作为支抗来移动牙齿E
以上均不正确
考题
单选题患者男，15岁，凸面型，鼻唇角正常，面下1／3短，磨牙远中关系，尖牙远中关系，前牙Ⅲ度深覆，覆盖1mm，上前牙直立，上颌拥挤5mm，下颌拥挤7mm，ANB5度，左侧上下第二磨牙锁猞治疗时加强支抗需采取的措施是（）。A
不需加强支抗B
上颌腭杠C
上颌Nance弓D
口外弓E
以上都不是
考题
单选题患者，女性，15岁，主诉牙列不齐。检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆牙合覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为（）A
上下颌强支抗B
上下颌中度支抗C
上颌强支抗，下颌弱度支抗D
上颌中度支抗，下颌弱支抗E
上下颌弱支抗
考题
单选题患者，男性，12岁，主诉牙列不齐，嘴唇突。临床检查：恒牙列，右侧磨牙关系远中尖对尖，左侧磨牙完全远中，上下牙列轻度拥挤，前牙深覆深覆盖Ⅲ度，下中线左偏约2mm，有咬下唇习惯，正面观轻度开唇露齿，侧面观面型突，颏唇沟深。功能检查：下颌前伸后侧貌改善。X线检查：∠SNA80.5°，∠SNB73.2°，U1／SN105°，L1／MP92°，MP／SN32.5°。若拔除第一前磨牙进行治疗，则磨牙支抗类型为（）A
上下颌强支抗B
上下颌中度支抗C
上下颌弱支抗D
上颌强支抗，下颌中度支抗E
上颌中度支抗，下颌弱支抗
考题
单选题患者，男，21岁，下颌呈相对后退位，下颌角大，口唇闭合呈现口唇肌肉紧张。覆Ⅲ度，覆盖7mm，磨牙远中咬合关系，上颌拥挤4mm，ANB为8°，SNA为81°，下颌无拥挤，下前牙略唇倾，Spee曲线曲度3mm。此患者的支抗要求是（）A
轻度支抗B
中度支抗C
强支抗D
不要求支抗E
以下颌为支抗
考题
单选题患者，女，16岁，恒牙，磨牙中性关系，前牙覆覆盖正常，上下牙弓Ⅲ°度拥挤，尖牙唇向错位，骨骼型Ⅰ类，双颌略显前突，四个第三磨牙牙胚存在。对此患者，应采用何种增强支抗的方法（）A
牙支抗B
颌内支抗C
颌间支抗D
Ⅱ类牵引E
在用颌内支抗的同时，加用口外唇弓来增强支抗
考题
单选题患者，女性，15岁，主诉：牙列不齐，检查：磨牙关系远中尖对尖，上颌尖牙唇向错位，间隙不足，上牙弓拥挤约6mm，下牙弓拥挤4mm，前牙覆覆盖Ⅰ度，直面型。设计：拔牙矫治。此患者治疗过程中磨牙所采用的支抗类型应为（）A
上下颌强支抗B
上下颌中度支抗C
上颌强支抗，下颌弱度支抗D
上颌中度支抗，下颌弱支抗E
上下颌弱支抗
考题
单选题患者男，21岁，下颌呈相对后退位，下颌角大，口唇闭合呈现口唇肌肉紧张。覆Ⅲ度，覆盖7mm，磨牙远中咬合关系，上颁拥挤4mm，ANB为8°，SNA为81°，下颌无拥挤，下前牙略唇倾，Spee曲线曲度3mm此患者的支抗要求是（）。A
轻度支抗B
中度支抗C
强支抗D
不要求支抗E
以下颌为支抗
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