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单选题
培养基中组分产生沉淀的原因不包括()
A
高浓度金属离子
B
高温高压
C
溶氧度
D
高PH
参考答案
参考解析
解析:
暂无解析
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考题
单扩法中,扩散圈呈双重沉淀环原因是()A、出现了扩散率相同,抗原性不同的组分B、出现了抗原性相同,扩散率不同的组分C、出现了扩散率相同,抗原性亦相同的组分D、出现了扩散率不同,抗原性不同的组分E、出现交叉反应抗原
考题
单选题单扩法中,扩散圈呈双重沉淀环原因是()A
出现了扩散率相同,抗原性不同的组分B
出现了抗原性相同,扩散率不同的组分C
出现了扩散率相同,抗原性亦相同的组分D
出现了扩散率不同,抗原性不同的组分E
出现交叉反应抗原
考题
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