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配合物中,配位数就是与中心离子结合的配位体的个数。


参考答案

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考题 下列说法欠妥的是() A、配合物的形成体(中心原子)大多是中性原子或带正电荷的离子。B、螯合物以六员环、五员环较稳定。C、配位数就是配位体的个数。D、二乙二胺合铜(Ⅱ)离子比四氨合铜(Ⅱ)离子稳定。

考题 配合物中心离子的配位数就是该配合物的配位体的个数。() 此题为判断题(对,错)。

考题 下列关于配合物的说法中,错误的是() A、中心离(原)子与配体以配位键结合B、配位体是具有孤对电子的负离子或分子C、配位数是中心离(原)子结合的配位体个数之和D、配离子可以存在于溶液中,也可以存在于晶体中

考题 与中心离子相结合的中性分子或阴离子称为()。 A.络离子B.络合物C.中心离子D.配位体

考题 对中心原子的配位数,下列说法不正确的是()A、能直接与中心原子配位的原子数目称为配位数B、中心原子电荷越高,配位数就越大C、中性配体比阴离子配体的配位数大D、配位体的半径越大,配位数越大

考题 与中心离子相结合的配位体的总数称为()。A、中心离子的配位数B、络合物的总数C、中心离子的总数D、配位体的总数

考题 与中心离子相结合的中性分子或阴离子称为()。A、络离子B、络合物C、中心离子D、配位体

考题 ()是指金属原子通过配位健与负离子或中性分子结合而形成的复杂离子。A、络离子B、络合物C、中心离子D、配位体

考题 已知金属离子M与配位体L形成逐级络合物。则络合反应的平均配位数与()。A、金属离子的浓度有关B、与配位体的浓度有关C、与金属离子和配位体的浓度有关D、与金属离子和配位体的浓度都无关,仅与稳定常数有关

考题 配位数是指中心原子与配位体形成的配位键数,数值上等于配位体个数。

考题 CoCl(NH3)5]Cl2的配合物的内界是(),外界(),配位体是(),配位数是(),配位原子是(),配合物名称为()。

考题 配位数最少等于中心离子的配位体的数目。

考题 配合物[Fe(en)3]Cl3,其配位体是(),中心离子的配位数是()。

考题 配合物(NH4)2[FeF5(H2O)]的系统命名为(),配离子的电荷是(),配位体是(),配位原子是(),中心离子的配位数是()。根据价键理论,中心原子的杂化轨道为(),属()型配合物。

考题 配合物[Cr(NH3)5Br]SO4,中心离子是(),配位体是()配位原子是(),配位数(),配离子的电荷数是(),中心离子的氧化数是(),内界是(),外界是()。

考题 下列描述配合物的配位数与空间构型关系的说法不正确的是:()A、中心离子配位数为2的配合物均为直线形;B、中心离子配位数为3的配合物均为三角形;C、中心离子配位数为4的配合物均为四面体型;D、中心离子配位数为6的配合物均为八面体型。

考题 在配合物[Co(NH3)3H2OCl2]中,中心离子是(),配位体是 NH3,H2O,Cl-,配位数是(),中心离子的氧化数是(),配离子的电荷数是(),内界(),外界()。

考题 在配离子中,中心离子的配位数等于每个中心离子所拥有的配位体的数目。

考题 关于中心原子的配位数,下列说法中不正确的是()A、在所有配合物中,配体的总数就是中心原子的配位数B、配体若都是单齿体,则内界中配体的总数为中心原子的配位数C、与中心离子或原子直接以配位键结合的配位原子的总数叫做该中心离子或原子的配位数D、最常见的配位数为6和4

考题 配合物[NiCl2(en)2]系统命名为其中中心离子的氧化数为(),配位体为(),中心离子配位数为(),配位原子是()。

考题 什么是中心离子?配位体?配位数?外配位层?

考题 判断题配位体的数目就是中心离子的配位数。A 对B 错

考题 单选题已知金属离子M与配位体L形成逐级络合物。则络合反应的平均配位数与()。A 金属离子的浓度有关B 与配位体的浓度有关C 与金属离子和配位体的浓度有关D 与金属离子和配位体的浓度都无关,仅与稳定常数有关

考题 填空题配合物[Fe(en)3]Cl3,其配位体是(),中心离子的配位数是()。

考题 填空题二水溴化二溴四水合钴(Ⅲ)的化学式是(), 配合物的中心离子是()。配位体是(),中心离子的配位数是(),配离子的电荷数是()

考题 填空题K3[Fe(CN)6]的名称是(),中心离子为(),其杂化轨道类型为(),配位体为(),配位原子为(),配位体数目为(),该配位化合物为()轨型配合物。

考题 填空题[Co(H2O)4Cl2]Cl配合物的中文命名为(),中心离子为(),配位体为(),配位原子为(),配位数为(),配离子的电荷为()