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多选题
布图设计权产生的形式条件包括()。
A

布图设计必须投入商业实施

B

布图设计必须具有新颖性

C

布图设计必须固化到集成电路芯片中

D

必须办理有关登记手续


参考答案

参考解析
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考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A.该布图设计必须投入商业实施B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C.布图设计应具有独创性D.受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 权利穷竭即首次销售、权力用尽制度,其含义是指布图设计权利人或经其授权的人将布图设计或含有该布图设计的集成电路产品投放市场后,对与该布图设计有关的商业利用行为,并且享有控制权。() 此题为判断题(对,错)。

考题 根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列说法哪些是正确的?( )A、布图设计专有权经国家知识产权局登记产生B、布图设计专有权自创作完成之日起自动产生C、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计登记申请之日起计算,D、布图设计专有权的保护期为15年,自布图设计创作完成之日起计算

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考题 《TRIPS协议》适用的知识产权包括()A、版权与邻接权B、地理标志权C、工业品外观设计权D、集成电路布图设计(拓扑图)权E、未披露过的信息权

考题 布图设计权在内容上可分为复制权和商业实施权。

考题 狭义的知识产权包括()A、工业产权和版权B、著作权和商标权C、专利权和著作权D、邻接权和集成电路布图设计权

考题 布图设计权产生的形式条件包括()。A、布图设计必须投入商业实施B、布图设计必须具有新颖性C、布图设计必须固化到集成电路芯片中D、必须办理有关登记手续

考题 布图设计不予保护的,有下列哪种?()A、采用常规设计的布图设计B、布图设计的设计思想C、未经登记的布图设计D、具有独创性的布图设计

考题 狭义的知识产权包括()。A、工业产权和版权B、著作权和商标权C、利权和著作权D、邻接权和集成电路布图设计权

考题 关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。A、该布图设计必须投入商业实施B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中C、布图设计应具有独创性D、受保护的布图设计必须办理登记手续

考题 WTO对知识产权范围的定义包括()。A、版权与相关权利B、商标权、地理标记权C、工业品外观设计、专利权D、集成电路布图设计(拓扑图)E、未披露过的信息(商业秘密)权

考题 “复制权”是指布图设计权人有权复制或许可他人复制其布图设计之一部或全部,任何第三人都可以复制某个布图设计。

考题 多选题布图设计不予保护的,有下列哪种?()A采用常规设计的布图设计B布图设计的设计思想C未经登记的布图设计D具有独创性的布图设计

考题 多选题广义的知识产权范围包括( )A著作权、邻接权B商标权、专利权C商号权、商业秘密权D地理标志权E集成电路布图设计权

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考题 多选题WTO对知识产权范围的定义包括()。A版权与相关权利B商标权、地理标记权C工业品外观设计、专利权D集成电路布图设计(拓扑图)E未披露过的信息(商业秘密)权