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每天允许的漏氢量为小于()
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考题
在影响异构脱蜡反应压力的因素中,设备漏损严重,应采取的对策是()A、稳定压力,联系仪表处理B、联系调度稳定新氢补充量C、检查泄露点,根据实际情况作出相应处理D、调整废氢排放量和新氢补充量,调节好循环氢纯度
考题
单选题消毒内镜关于测漏的要求错误的是()A
宜每次清洗前测漏B
条件不允许时应至少每天测漏1次C
每周测漏D
需配置测漏设备
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