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在氨合成反应宏观动力学的表面反应过程中,控制表面反应的步骤是()

A、氮气的活性吸附

B、氢气的活性吸附

C、生成氨的反应

D、氨的脱附


参考答案

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考题 氨合成反应表面动力学过程的控制步骤是() A、氮气的活性吸附B、氢气的活性吸附C、生成氨的表面反应D、氨的表面解吸

考题 1、在伏安技术中,当电位扫描速度较大时常在伏安曲线上出现电流峰现象,这是由于()A.电极表面反应物种浓度出现峰值B.电极表面反应物种浓度梯度出现峰值C.扩散层厚度出现峰值D.电极表面反应物扩散速度出现峰值

考题 8、Thiele模数大小反映了表面反应速率与扩散速率之比,内扩散阻力越大,Thiele模数越大。

考题 CVD工艺当hg<<ks时,薄膜淀积速率受表面反应控制,对温度很敏感。

考题 1. 气—固相催化反应的内扩散模数,它是表征内扩散影响的重要参数,数值平方的大小反映了表面反应速率与_______之比。

考题 29、CVD工艺当hgks时,薄膜淀积速率受表面反应控制,对温度很敏感。

考题 Thiele模数大小反映了表面反应速率与扩散速率之比,内扩散阻力越大,Thiele模数越大。

考题 在伏安技术中,当电位扫描速度较大时常在伏安曲线上出现电流峰现象,这是由于()A.电极表面反应物种浓度出现峰值B.电极表面反应物种浓度梯度出现峰值C.扩散层厚度出现峰值D.电极表面反应物扩散速度出现峰值

考题 35、固定床反应器中的传质过程包括那几个过程?A.外扩散B.内扩散C.表面反应D.床层内的混合扩散