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关于义齿基托磨光面的制备原则,错误的是

A、均应制成斜凸形斜面

B、上颌颊面应为向上外的斜面

C、上颌舌面应为向上内的斜面

D、下颌颊面应为向下外的斜面

E、下颌舌面应为向下内的斜面


参考答案

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考题 对于可摘局部义齿基托的要求,不正确的是A、基托磨光面外形应为凹斜面B、下颌基托后缘应盖过磨牙后垫的1/3~1/2C、基托应与天然牙非倒凹区接触密合无压力D、上颌基托应覆盖双侧的上颌结节E、上颌腭侧基托边缘应圆钝,略厚,以防基托下沉,刺激软腭

考题 全口义齿基托的舌腭面及颊面,其磨光面的基本形态应为A、舌腭面为凹斜面,颊面为凸斜面B、舌腭面为平面,颊面为凹斜面C、舌腭面为凹斜面,颊面为凹斜面D、舌腭面为凸斜面,颊面为凹斜面E、舌腭面为凸斜面,颊面为凸斜面

考题 可摘局部义齿基托磨光面的设计中,基托的舌腭面及颊面的基本形态应该为A.凸面B.凹面C.凸斜面D.凸凹面E.平面

考题 有关可摘局部义齿基托的要求,不正确的是A、下颌基托后缘应盖过磨牙后垫的1/3~1/2B、上颌膊侧基托边缘应圆钝,略厚,以防基托下沉,刺激软腭C、基托应与天然牙非倒凹区接触,密合无压力D、基托磨光面外形应为凹斜面E、整铸支架式义齿基托厚度为0.5mm

考题 可摘义齿基托磨光面的设计中,基托的舌腭面及颊面的基本形态应为A.凸面B.凹斜面C.凸斜面D.凸凹面E.平面

考题 义齿基托磨光面的制备原则,说法错误的是A、均应制成斜凸形斜面B、上颌颊面应向上外的斜面C、上颌舌面应向上内的斜面D、下颌颊面应向下外的斜面E、下颌舌面应向下内的斜面

考题 关于义齿基托磨光面的制备原则,错误的是A.均应制成斜凸形斜面 B.上颌颊面应为向上外的斜面 C.上颌舌面应为向上内的斜面 D.下颌颊面应为向下外的斜面 E.下颌舌面应为向下内的斜面

考题 对于可摘局部义齿基托的要求,不正确的是A.基托应与天然牙非倒凹区接触密合无压力 B.下颌基托后缘应盖过磨牙后垫的1/3~1/2 C.上颌基托应覆盖双侧的上颌结节 D.上颌腭侧基托边缘应圆钝,略厚,以防基托下沉,刺激软腭 E.基托磨光面外形应为凹斜面

考题 义齿基托磨光面的制备原则,说法错误的是A.下颌舌面应向下内的斜面 B.上颌颊面应向上外的斜面 C.上颌舌面应向上内的斜面 D.下颌颊面应向下外的斜面 E.均应制成斜凸形斜面