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青霉素中引起过敏的杂质主要是

A、青霉噻唑酸

B、青霉噻唑多肽

C、水解产物

D、青霉胺

E、青霉菌


参考答案

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考题 在碱性或青霉素酶的作用下,青霉素易发生水解,生成()。A.青霉噻唑酸B.青霉胺C.青霉酸D.青霉烯酸E.青霉醛

考题 引起青霉素过敏的主要原因是()。 A、青霉素本身的致敏源B、合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物C、青霉素与蛋白质反应物D、青霉素的水解物

考题 引起青霉素过敏的主要原因是( )。A. 青霉素本身为过敏源B.合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物。C.青霉素与蛋白质反应物D.青霉素的水解物E.青霉素的侧链部分结构所致

考题 青霉素降解的最终产物( )。A.青霉噻唑酸B.青霉烷酸C.青霉醛D.青霉胺E.青霉烯酸

考题 青霉素钠的最终降解产物为( )。A.青霉素B.青霉醛C.青霉胺D.青霉烯酸E.青霉噻唑酸

考题 青霉素完全水解的产物是A.青霉胺B.青霉醛C.二氧化碳D.青霉烯酸E.青霉噻唑酸

考题 青霉素在碱性条件下水解生成的降解产物为A.青霉胺B.青霉酸C.青霉醛D.青霉噻唑酸E.青霉烯酸

考题 用碘量法测定青霉素含量的原理为A.青霉素可与碘定量反应B.青霉素在碱性条件下的水解产物青霉噻唑酸可与碘定量反应C.青霉素在酸性条件下的水解产物青霉胺可与碘定量反应D.青霉素分子中的β-内酰胺环与碘定量反应E.青霉素分子中的氢化噻唑环与碘定量反应

考题 下列哪一条不符合青霉素G的性质A.在室温pH4的条件下,水解成青霉烯酸B.在室温pH4的条件下,重排产物是青霉二酸C.在碱性条件下可水解成青霉噻唑酸D.在青霉素酶催化下可水解成青霉噻唑酸E.在碱性条件下可水解成青霉噻唑酸,进一步水解成青霉醛和青霉胺

考题 青霉素在强酸条件下的最终分解产物为A、青霉噻唑酸B、青霉烯酸C、青霉二酸D、青霉醛和青霉胺E、青霉烷酸

考题 引起青霉素过敏的主要原因是A、青霉素本身为过敏原B、合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物C、青霉素与蛋白质反应物D、青霉素的水解产物E、青霉素的侧链部分结构所致

考题 引起青霉素过敏的主要原因是A.青霉素本身为过敏原B.合成、生产过程中引入的杂质如青霉噻唑等高聚物C.青霉素与蛋白质反应物D.青霉素的水解产物E.青霉素的侧链部分结构所致

考题 引起青霉素过敏的主要原因是A:青霉素本身为过敏原B:合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物C:青霉素与蛋白质反应D:青霉素的水解产物E:青霉素的侧链部分结构所致

考题 引起青霉素过敏的主要原因是A:青霉素本身为过敏原B:合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物C:青霉素与蛋白质的反应物D:青霉素的水解物E:青霉素的侧链部分结构所致

考题 青霉素中引起过敏的杂质主要是A.青霉菌 B.青霉噻唑酸 C.青霉噻唑多肽 D.水解产物 E.青霉胺

考题 青霉素在强酸条件下的最终分解产物为A.青霉噻唑酸 B.青霉烯酸 C.青霉二酸 D.青霉醛和青霉胺 E.青霉烷酸

考题 引起青霉素过敏的主要原因是 A .青霉素本身为过敏源 B .合成、生产过程中引入的杂质青霉噻唑等高聚物 C .青霉素与蛋白质反应物 D .青霉素的水解物 E .青霉素的侧链部分结构所致

考题 青霉素的降解产物包括()A、青霉噻唑酸B、青霉酸C、青霉烯酸D、青霉胺E、青霉醛

考题 青霉素发生水解和分子重排后,产生的降解产物有()A、青霉酸B、β-内酰胺C、青霉胺D、青霉噻唑酸E、青霉醛

考题 使用青霉素导致的变态反应,主要是因为()A、青霉素的水解产物B、青霉素与蛋白质反应C、青霉素本身是过敏原D、合成、生产过程中引入青霉噻唑等聚合物

考题 引起青霉素过敏的主要原因是()。A、青霉素本身为过敏源B、合成、生产过程中引入的杂质青霉素噻唑等高聚物C、青霉素与蛋白质反应物D、青霉素的水解物E、青霉素的侧部分结构所致

考题 青霉素的降解产物中不包括()A、青霉烯酸B、青霉醛C、3—内酰胺D、青霉胺E、青霉噻唑酸

考题 多选题青霉素发生水解和分子重排后,产生的降解产物有()A青霉酸Bβ-内酰胺C青霉胺D青霉噻唑酸E青霉醛

考题 单选题青霉素的降解产物中不包括()A 青霉烯酸B 青霉醛C 3—内酰胺D 青霉胺E 青霉噻唑酸

考题 多选题青霉素的降解产物包括()A青霉噻唑酸B青霉酸C青霉烯酸D青霉胺E青霉醛

考题 单选题引起青霉素过敏的主要原因是()。A 青霉素本身为过敏源B 合成、生产过程中引入的杂质青霉素噻唑等高聚物C 青霉素与蛋白质反应物D 青霉素的水解物E 青霉素的侧部分结构所致

考题 单选题青霉素在碱性条件下水解生成的降解产物是(  )。A 青霉噻唑酸B 青霉胺C 青霉醛D 青霉酸E 青霉烯酸